应变及碳含量对Bi2212超导薄膜性能影响的研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 高温超导简介 | 第10页 |
| 1.2 高温超导体的应用 | 第10-11页 |
| 1.3 Bi系氧化物超导薄膜的研究 | 第11-18页 |
| 1.3.1 Bi系超导体的结构特征 | 第11-12页 |
| 1.3.2 Bi系氧化物超导薄膜的研究现状 | 第12-13页 |
| 1.3.3 Bi系氧化物超导薄膜的制备 | 第13-15页 |
| 1.3.4 Bi系氧化物超导薄膜目前存在的问题 | 第15-17页 |
| 1.3.5 Bi系高温超导体织构特性研究现状 | 第17-18页 |
| 1.4 本论文的研究意义和内容 | 第18-20页 |
| 1.4.1 研究目的和意义 | 第18页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第18-20页 |
| 第2章 薄膜制备与分析方法 | 第20-34页 |
| 2.1 制备方法 | 第20-27页 |
| 2.1.1 溶胶-凝胶法 | 第20-21页 |
| 2.1.2 Pechini溶胶-凝胶法 | 第21-24页 |
| 2.1.3 薄膜的制备 | 第24-27页 |
| 2.2 分析方法 | 第27-34页 |
| 2.2.1 X射线衍射仪 | 第27-29页 |
| 2.2.2 电子探针 | 第29页 |
| 2.2.3 TG-DSC-MS | 第29-31页 |
| 2.2.4 原子力显微镜 | 第31页 |
| 2.2.5 电输运测试系统 | 第31-32页 |
| 2.2.6 标准四引线法 | 第32-34页 |
| 第3章 Bi2212薄膜与基底间错配应变的探究 | 第34-48页 |
| 3.1 引言 | 第34-35页 |
| 3.2 Bi2212晶格常数计算 | 第35-42页 |
| 3.2.1 非(00l)面计算晶格常数 | 第35-39页 |
| 3.2.2 (00l)面计算晶格常数 | 第39-42页 |
| 3.2.3 两种方法的比较 | 第42页 |
| 3.3 薄膜的厚度对应变和电学性能的影响 | 第42-46页 |
| 3.4 本章结论 | 第46-48页 |
| 第4章 碳含量对Bi2212薄膜性能的影响 | 第48-64页 |
| 4.1 薄膜的制备 | 第48-51页 |
| 4.1.1 复合络合剂配比的选择 | 第48-50页 |
| 4.1.2 名义减碳量 | 第50-51页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第51-61页 |
| 4.2.1 烧结过程的热分析 | 第51-54页 |
| 4.2.2 薄膜碳含量的测定 | 第54-55页 |
| 4.2.3 薄膜的物相分析 | 第55-57页 |
| 4.2.4 薄膜的表面形貌 | 第57-58页 |
| 4.2.5 薄膜的电学性能的分析 | 第58-61页 |
| 4.3 本章结论 | 第61-64页 |
| 第5章 结论 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-72页 |
| 攻读硕士学位期间已发表和在投的论文 | 第72-74页 |
| 致谢 | 第74页 |
