| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-26页 |
| 1.1 共轭导电聚合物 | 第9-17页 |
| 1.1.1 导电聚合物的发现 | 第9-10页 |
| 1.1.2 共轭导电聚合物的掺杂和导电特性 | 第10-11页 |
| 1.1.3 共轭导电聚合物的制备 | 第11-13页 |
| 1.1.4 共轭导电聚合物的应用 | 第13-16页 |
| 1.1.5 外加场对共轭高分子构象的影响 | 第16-17页 |
| 1.2 聚合物薄膜的表面不稳定性 | 第17-26页 |
| 1.2.1 表面皱纹现象的产生 | 第17-18页 |
| 1.2.2 表面皱纹的机理和应用 | 第18-23页 |
| 1.2.3 薄膜中残余应力 | 第23-26页 |
| 第二章 本论文的研究内容和意义 | 第26-27页 |
| 第三章 共轭聚合物薄膜微结构变化的研究 | 第27-46页 |
| 3.1 引言 | 第27页 |
| 3.2 实验部分 | 第27-33页 |
| 3.2.1 实验材料 | 第27-29页 |
| 3.2.2 噻吩衍生物单体的合成 | 第29-32页 |
| 3.2.3 聚噻吩衍生物的合成 | 第32-33页 |
| 3.3 聚噻吩衍生物薄膜微结构变化研究 | 第33-37页 |
| 3.3.1 聚合物薄膜的制备 | 第33-34页 |
| 3.3.2 聚合物薄膜的处理实验 | 第34-37页 |
| 3.4 结果与讨论 | 第37-45页 |
| 3.5 本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 聚甲基丙烯酸甲酯表面不稳定性研究 | 第46-60页 |
| 4.1 引言 | 第46-47页 |
| 4.2 二氧化硅镶嵌的聚甲基丙烯酸甲酯薄膜的制备 | 第47-48页 |
| 4.2.1 实验材料 | 第47页 |
| 4.2.2 镶嵌有二氧化硅纳米粒子硅片的制备 | 第47-48页 |
| 4.2.3 聚甲基丙烯酸甲酯薄膜的制备 | 第48页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第48-59页 |
| 4.3.1 聚甲基丙烯酸甲酯薄膜的起伏现象 | 第48-50页 |
| 4.3.2 二氧化硅纳米粒子分布和间距对聚合物薄膜的影响 | 第50-51页 |
| 4.3.3 聚合物薄膜表面起伏的演变过程 | 第51-54页 |
| 4.3.4 溶剂处理对聚合物薄膜表面起伏的影响 | 第54-57页 |
| 4.3.5 热处理温度对聚合物表面波状起伏的影响 | 第57-59页 |
| 4.4 本章小结 | 第59-60页 |
| 第五章 全文总结 | 第60-62页 |
| 5.1 本论文主要结果 | 第60-61页 |
| 5.2 问题与展望 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-72页 |
| 攻读硕士学位期间公开发表论文 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |