特种应用光学增透膜与滤光片的制备工艺研究
| 摘要 | 第2-3页 |
| ABSTRACT | 第3页 |
| 第一章 引言 | 第6-12页 |
| 1.1 研究目的和意义 | 第6-7页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第7-8页 |
| 1.3 光学薄膜分类 | 第8-11页 |
| 1.4 光学薄膜工艺技术发展历程 | 第11-12页 |
| 第二章 光学薄膜基本理论 | 第12-18页 |
| 2.1 电磁波理论 | 第12-13页 |
| 2.2 薄膜相干干涉原理 | 第13-16页 |
| 2.3 光学薄膜的特性矩阵和导纳 | 第16-18页 |
| 第三章 宽带增透膜制备工艺的研究 | 第18-31页 |
| 3.1 膜系设计 | 第18-20页 |
| 3.2 实验前的准备 | 第20-21页 |
| 3.2.1 实验所用到材料和仪器设备 | 第20页 |
| 3.2.2 沉积增透薄膜所用膜料选择 | 第20-21页 |
| 3.3 宽带增透膜镀制工艺过程 | 第21-27页 |
| 3.3.1 基片镀膜前的清洗工艺 | 第21-23页 |
| 3.3.2 沉积实验流程 | 第23-26页 |
| 3.3.3 沉积速率改变实验 | 第26页 |
| 3.3.4 真空环境温度改变实验 | 第26-27页 |
| 3.4 实验数据与测试结果分析 | 第27-30页 |
| 3.5 本章小结 | 第30-31页 |
| 第四章 长波通滤光片薄膜制备工艺研究 | 第31-42页 |
| 4.1 光谱指标要求和材料折射率 | 第31页 |
| 4.2 膜系设计 | 第31-33页 |
| 4.3 实验所用到材料和仪器设备 | 第33-34页 |
| 4.4 滤光片镀膜实验过程 | 第34-35页 |
| 4.5 长波通滤光片镀膜实验测试结果 | 第35-36页 |
| 4.6 不同工艺对滤光片性能的影响 | 第36-41页 |
| 4.6.1 不同机型生产滤光片的对比验证 | 第36-39页 |
| 4.6.2 相同波长下的薄片式和六面体的对比 | 第39-41页 |
| 4.７本章小结 | 第41-42页 |
| 第五章 结论与展望 | 第42-44页 |
| 5.1 总结 | 第42-43页 |
| 5.2 工作展望 | 第43-44页 |
| 参考文献 | 第44-47页 |
| 在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第47-48页 |
| 致谢 | 第48-49页 |
