AZ91D镁合金微弧氧化膜层高温氧化行为及抗热震性研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-16页 |
| 1.1 镁合金的应用 | 第8页 |
| 1.2 镁的氧化物结构特点 | 第8-9页 |
| 1.3 改善镁合金抗高温氧化的方法 | 第9-10页 |
| 1.4 微弧氧化技术 | 第10-15页 |
| 1.4.1 微弧氧化技术及其基本原理 | 第10-11页 |
| 1.4.2 微弧氧化技术发展现状 | 第11-12页 |
| 1.4.3 镁合金微弧氧化膜层的影响因素 | 第12-13页 |
| 1.4.4 镁合金微弧氧化膜层的应用及存在问题 | 第13-14页 |
| 1.4.5 陶瓷材料的抗热震性 | 第14-15页 |
| 1.5 本文的研究目的及研究内容 | 第15-16页 |
| 1.5.1 研究目的及意义 | 第15页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第15-16页 |
| 第二章 试验条件及方法 | 第16-19页 |
| 2.1 试验条件 | 第16-17页 |
| 2.1.1 试验基材及试剂 | 第16页 |
| 2.1.2 微弧氧化设备及加热设备 | 第16页 |
| 2.1.3 检测设备 | 第16-17页 |
| 2.2 试验方法 | 第17-19页 |
| 2.2.1 微弧氧化膜层的制备 | 第17页 |
| 2.2.2 高温氧化试验 | 第17页 |
| 2.2.3 热震性试验 | 第17-19页 |
| 第三章 AZ91D镁合金微弧氧化膜层的制备 | 第19-31页 |
| 3.1 处理电压的选择 | 第19-23页 |
| 3.2 电流密度的选择 | 第23-24页 |
| 3.3 处理时间的选择 | 第24页 |
| 3.4 频率的选择 | 第24-25页 |
| 3.5 占空比的选择 | 第25-26页 |
| 3.6 AZ91D镁合金微弧氧化膜层的表征 | 第26-29页 |
| 3.6.1 膜层相组成 | 第26-27页 |
| 3.6.2 膜层表面孔径 | 第27-28页 |
| 3.6.3 膜层厚度 | 第28-29页 |
| 3.7 本章小结 | 第29-31页 |
| 第四章 AZ91D镁合金微弧氧化膜层高温氧化行为 | 第31-40页 |
| 4.1 高温氧化动力学分析 | 第31-38页 |
| 4.1.1 400℃下微弧氧化试样氧化动力曲线 | 第32-33页 |
| 4.1.2 微弧氧化试样高温氧化后表面形貌 | 第33-34页 |
| 4.1.3 微弧氧化膜层加热前后物相组成对比 | 第34-35页 |
| 4.1.4 微弧氧化试样高温氧化产物分析 | 第35-38页 |
| 4.2 微弧氧化膜层高温氧化模型 | 第38-39页 |
| 4.3 本章小结 | 第39-40页 |
| 第五章 AZ91D镁合金微弧氧化膜层抗热震性研究 | 第40-47页 |
| 5.1 微弧氧化膜层抗热震性试验结果 | 第40页 |
| 5.2 微弧氧化膜层热震性试验后表面形貌 | 第40-43页 |
| 5.3 微弧氧化膜层热震过程中膜层开裂过程分析 | 第43-44页 |
| 5.4 处理电压与膜层抗热震性的关系 | 第44-46页 |
| 5.5 本章小结 | 第46-47页 |
| 结论 | 第47-48页 |
| 展望 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-53页 |
| 攻读硕士学位期间取得的学术成果 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54页 |
