| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-16页 |
| 1.1 课题的研究背景及意义 | 第9-10页 |
| 1.2 相关技术的国内外研究现状 | 第10-14页 |
| 1.3 本文的主要内容与组织结构 | 第14-16页 |
| 2 光场信息的获取及表征 | 第16-22页 |
| 2.1 光场的定义及其参数化表征 | 第16-18页 |
| 2.2 光场四维信息的获取方式及坐标空间中表征 | 第18-20页 |
| 2.3 基于EPI的光场信息提取 | 第20-21页 |
| 2.4 本章小结 | 第21-22页 |
| 3 基于光场信息指定深度物面聚焦成像算法 | 第22-43页 |
| 3.1 合成孔径聚焦成像虚化前景遮挡基本原理 | 第22-28页 |
| 3.1.1 合成孔径大小对前景虚化的影响 | 第22-26页 |
| 3.1.2 实现合成孔径聚焦成像虚化前景的采样方式 | 第26-28页 |
| 3.2 合成孔径聚焦成像算法原理 | 第28-31页 |
| 3.3 基于EPI对指定深度上目标聚焦成像 | 第31-34页 |
| 3.4 合成孔径成像实验结果与分析 | 第34-42页 |
| 3.4.1 实验结果 | 第34-39页 |
| 3.4.2 实验结果分析 | 第39-42页 |
| 3.5 本章小结 | 第42-43页 |
| 4 基于前景移除的合成孔径全聚焦成像算法 | 第43-66页 |
| 4.1 基于前景移除的合成孔径成像方法 | 第43-50页 |
| 4.1.1 算法主要流程概述 | 第43-44页 |
| 4.1.2 前景标记方法 | 第44-48页 |
| 4.1.3 前景射线筛除 | 第48-49页 |
| 4.1.4 指定深度上的目标进行聚焦成像 | 第49-50页 |
| 4.2 全聚焦图像合成算法 | 第50-58页 |
| 4.2.1 基于深度信息对各视角下场景分层处理 | 第50-52页 |
| 4.2.2 基于深度分层的聚焦度测量 | 第52-56页 |
| 4.2.3 选择性测量 | 第56-57页 |
| 4.2.4 全聚焦图像融合 | 第57-58页 |
| 4.3 实验结果与分析 | 第58-65页 |
| 4.4 本章小结 | 第65-66页 |
| 5 总结与展望 | 第66-68页 |
| 5.1 论文工作总结 | 第66-67页 |
| 5.2 存在的问题及今后研究重点 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |