| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 引言 | 第11-12页 |
| 1 绪论 | 第12-27页 |
| 1.1 硬质涂层 | 第12-15页 |
| 1.1.1 二元硬质涂层 | 第12-13页 |
| 1.1.2 多元合金化硬质涂层 | 第13-14页 |
| 1.1.3 刀具涂层的发展现状 | 第14-15页 |
| 1.2 纳米多层涂层 | 第15-17页 |
| 1.3 纳米复合涂层 | 第17-22页 |
| 1.3.1 纳米复合涂层的介绍 | 第17-19页 |
| 1.3.2 TiSiN 纳米复合涂层的调幅分解条件（热力学）基础 | 第19-21页 |
| 1.3.3 TiSiN 纳米复合涂层的制备技术 | 第21-22页 |
| 1.4 高功率脉冲磁控溅射技术 | 第22-25页 |
| 1.5 本文研究内容与目的 | 第25-27页 |
| 2 实验工艺与表征方法 | 第27-32页 |
| 2.1 涂层沉积工艺 | 第28-29页 |
| 2.2 涂层的表征 | 第29-32页 |
| 2.2.1 结构和形貌表征 | 第29-30页 |
| 2.2.2 性能表征 | 第30-32页 |
| 3 HIPIMS 制备 TiN 涂层的研究 | 第32-46页 |
| 3.1 引言 | 第32页 |
| 3.2 基体负偏压对 TiN 涂层结构和性能的影响 | 第32-39页 |
| 3.2.1 研究前言 | 第32页 |
| 3.2.2 涂层制备 | 第32-34页 |
| 3.2.3 偏压对沉积速率的影响 | 第34页 |
| 3.2.4 偏压对成分的影响 | 第34-35页 |
| 3.2.5 偏压对相结构的影响 | 第35-36页 |
| 3.2.6 偏压对形貌和粗糙度的影响 | 第36-38页 |
| 3.2.7 偏压对力学性能的影响 | 第38-39页 |
| 3.2.8 本节结论 | 第39页 |
| 3.3 基架旋转对 HIPIMS 制备 TiN 薄膜结构和性能的影响 | 第39-45页 |
| 3.3.1 研究前言 | 第39-40页 |
| 3.3.2 涂层制备 | 第40页 |
| 3.3.3 形貌和粗糙度 | 第40-42页 |
| 3.3.4 涂层的相结构 | 第42页 |
| 3.3.5 涂层的力学性能 | 第42-44页 |
| 3.3.6 涂层的耐腐蚀性能 | 第44页 |
| 3.3.7 本节结论 | 第44-45页 |
| 3.4 本章小结 | 第45-46页 |
| 4 HIPIMS 和 DCMS 制备 TiSiN 涂层的对比 | 第46-55页 |
| 4.1 引言 | 第46页 |
| 4.2 实验部分 | 第46-47页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第47-54页 |
| 4.3.1 涂层成分和结构 | 第47-51页 |
| 4.3.2 涂层的力学性能 | 第51-52页 |
| 4.3.3 涂层的摩擦学性能 | 第52-53页 |
| 4.3.4 涂层的抗腐蚀性能 | 第53-54页 |
| 4.4 本章小结 | 第54-55页 |
| 5 N_2流量对 HIPIMS 制备 TiSiN 涂层结构和性能的影响 | 第55-64页 |
| 5.1 引言 | 第55页 |
| 5.2 实验部分 | 第55页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第55-63页 |
| 5.3.1 等离子体放电特性研究 | 第55-56页 |
| 5.3.2 涂层的沉积速率 | 第56-57页 |
| 5.3.3 涂层的结构和成分 | 第57-62页 |
| 5.3.4 涂层的力学性能 | 第62-63页 |
| 5.4 本章小结 | 第63-64页 |
| 6 结论与展望 | 第64-66页 |
| 6.1 结论 | 第64页 |
| 6.2 展望 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-73页 |
| 在学研究成果 | 第73-75页 |
| 致谢 | 第75页 |
