绒面氧化锡薄膜的制备及其雾度控制的研究
摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6页 |
目录 | 第7-9页 |
第1章 绪论 | 第9-18页 |
1.1 课题背景 | 第9页 |
1.2 透明导电氧化物薄膜概述及分类 | 第9-12页 |
1.2.1 ITO 薄膜 | 第10页 |
1.2.2 FTO 薄膜和 ATO 薄膜 | 第10-11页 |
1.2.3 AZO 薄膜 | 第11-12页 |
1.3 透明导电氧化物薄膜的制备方法 | 第12-15页 |
1.3.1 磁控溅射法 | 第12页 |
1.3.2 化学气相沉积法 | 第12-13页 |
1.3.3 溶胶-凝胶法 | 第13-14页 |
1.3.4 喷雾热解法 | 第14-15页 |
1.4 绒面 TCO 薄膜介绍及其研究现状 | 第15-17页 |
1.4.1 绒面 TCO 薄膜介绍 | 第15-16页 |
1.4.2 国内外研究现状 | 第16-17页 |
1.5 本论文研究的主要内容 | 第17-18页 |
第2章 实验过程及方法 | 第18-28页 |
2.1 实验试剂与仪器 | 第18页 |
2.2 喷雾热解法制备氧化锡薄膜 | 第18-21页 |
2.2.1 喷雾热解液的配制 | 第19页 |
2.2.2 氧化锡薄膜的制备 | 第19-21页 |
2.3 性能及表征方法 | 第21-26页 |
2.3.1 雾度分析 | 第21-22页 |
2.3.2 X 射线衍射分析 | 第22-23页 |
2.3.3 场发射扫描电镜分析 | 第23-24页 |
2.3.4 原子力显微镜分析 | 第24-25页 |
2.3.5 紫外-可见分光光度计分析 | 第25-26页 |
2.3.6 薄膜的方块电阻测试 | 第26页 |
2.4 本章小结 | 第26-28页 |
第3章 结果与讨论 | 第28-72页 |
3.1 喷雾距离和间隔时间的确定 | 第28-31页 |
3.2 不同制备条件对薄膜雾度的影响 | 第31-34页 |
3.3 绒面氧化锡薄膜结构分析 | 第34-44页 |
3.3.1 基体温度对薄膜结构的影响 | 第34-37页 |
3.3.2 沉积层数对薄膜结构的影响 | 第37-39页 |
3.3.3 四氯化锡浓度对薄膜结构的影响 | 第39-42页 |
3.3.4 醇水比对薄膜结构的影响 | 第42-43页 |
3.3.5 薄膜结构与雾度的关系 | 第43-44页 |
3.4 绒面氧化锡薄膜形貌分析 | 第44-64页 |
3.4.1 基体温度对薄膜形貌的影响 | 第44-51页 |
3.4.2 沉积层数对薄膜形貌的影响 | 第51-55页 |
3.4.3 四氯化锡浓度对薄膜形貌的影响 | 第55-60页 |
3.4.4 醇水比对薄膜形貌的影响 | 第60-63页 |
3.4.5 薄膜形貌与雾度的关系 | 第63-64页 |
3.5 薄膜透光性和导电性分析 | 第64-70页 |
3.6 本章小结 | 第70-72页 |
结论 | 第72-73页 |
参考文献 | 第73-78页 |
攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第78-79页 |
致谢 | 第79-80页 |
作者简介 | 第80页 |