| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 1 绪论 | 第8-14页 |
| 1.1 硅藻壳壁的多层次结构与力学特性 | 第8-10页 |
| 1.2 非晶态 SiO_2力学特性的研究 | 第10-12页 |
| 1.3 仿硅藻壳壁的薄片孔洞结构 | 第12-13页 |
| 1.4 本论文的主要研究内容 | 第13-14页 |
| 2 分子动力学模拟技术 | 第14-23页 |
| 2.1 分子动力学模拟的基本原理 | 第14-21页 |
| 2.2 分子模拟软件 Lammps | 第21-22页 |
| 2.3 本章小结 | 第22-23页 |
| 3 非晶态 SiO_2 拉伸行为的分子动力学模拟 | 第23-31页 |
| 3.1 ReaxFF 反应力场 | 第23-24页 |
| 3.2 非晶态 SiO_2样本的模拟制备 | 第24-26页 |
| 3.3 拉伸行为的分子动力学模拟 | 第26-27页 |
| 3.4 力学参数的计算方法 | 第27页 |
| 3.5 大规模样本的周期性复制制备 | 第27-29页 |
| 3.6 本章小结 | 第29-31页 |
| 4 非晶态 SiO_2 块体结构的拉伸行为与变形机理 | 第31-42页 |
| 4.1 块体结构的拉伸行为模拟 | 第31-32页 |
| 4.2 应力-应变曲线 | 第32-33页 |
| 4.3 系统构型演变 | 第33-35页 |
| 4.4 微结构的演变 | 第35-40页 |
| 4.4.1 最大空洞半径 | 第35-36页 |
| 4.4.2 径向分布函数 | 第36-38页 |
| 4.4.3 键角分布 | 第38-40页 |
| 4.5 自由表面的影响 | 第40-41页 |
| 4.6 本章小结 | 第41-42页 |
| 5 非晶态 SiO_2 薄片孔洞结构的拉伸行为与变形机理 | 第42-57页 |
| 5.1 薄片孔洞结构的拉伸行为模拟 | 第42-43页 |
| 5.2 薄片长度和孔径的影响 | 第43-53页 |
| 5.2.1 应力-应变曲线 | 第43-45页 |
| 5.2.2 力学特性分析 | 第45-46页 |
| 5.2.3 系统构型演变 | 第46-50页 |
| 5.2.4 Von Mises 应力分布 | 第50-53页 |
| 5.3 薄片厚度的影响 | 第53-56页 |
| 5.3.1 应力-应变曲线 | 第53-54页 |
| 5.3.2 力学特性分析 | 第54-56页 |
| 5.4 本章小结 | 第56-57页 |
| 6 结论与展望 | 第57-59页 |
| 6.1 结论 | 第57-58页 |
| 6.2 展望 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |