| 摘要 | 第5-7页 |
| abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-15页 |
| 1.1 气相反应 O(~3P)+CH_4→OH+CH_3 | 第11-13页 |
| 1.2 氢分子在氢原子预吸附的 Ni(111)表面的解离 | 第13-15页 |
| 第二章 理论方法 | 第15-20页 |
| 2.1 量子力学效应 | 第15-17页 |
| 2.1.1 Wigner 隧穿校正因子 | 第15页 |
| 2.1.2 半经典 WKB(Wentzel-Kramers-Brillouin)隧穿近似 | 第15-16页 |
| 2.1.3 瞬子(instanton)隧穿几率 | 第16-17页 |
| 2.2 常用的计算化学反应速率常数的方法 | 第17-19页 |
| 2.2.1 Canonical variational transition state theory (CVT) | 第17页 |
| 2.2.2 Time-independent quantum scattering | 第17页 |
| 2.2.3 Multiconfigurational time dependent hartree approach (MCTDH) | 第17-18页 |
| 2.2.4 Quantum transition state theory (QTST) | 第18页 |
| 2.2.5 Ring polymer molecular dynamics (RPMD) | 第18页 |
| 2.2.6 Harmonic transition state theory (HTST) | 第18页 |
| 2.2.7 Instanton rate constant | 第18-19页 |
| 2.3 量子瞬子方法 | 第19-20页 |
| 第三章 气相多原子反应的速率常数 | 第20-32页 |
| 3.1 化学反应 O(~3P)+CH_4→OH+CH_3 | 第20-30页 |
| 3.1.1 量子瞬子计算公式的路径积分表达 | 第20-22页 |
| 3.1.2 反应坐标 | 第22-23页 |
| 3.1.3 计算参数 | 第23页 |
| 3.1.4 速率常数 | 第23-30页 |
| 3.2 小结 | 第30-32页 |
| 第四章 H_2在H预吸附的 Ni(111)表面的解离和生成 | 第32-47页 |
| 4.1 势能面及晶格模型 | 第32-33页 |
| 4.2 量子瞬子计算公式的路径积分表达 | 第33-34页 |
| 4.3 反应坐标 | 第34-35页 |
| 4.4 计算细节 | 第35-36页 |
| 4.5 解离速率常数 | 第36-44页 |
| 4.5.1 表面覆盖效应和晶格运动效应 | 第36-39页 |
| 4.5.2 排列效应 | 第39-41页 |
| 4.5.3 同位素效应 | 第41-44页 |
| 4.6 生成速率常数 | 第44-45页 |
| 4.7 小结 | 第45-47页 |
| 参考文献 | 第47-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
| 作者简介 | 第52页 |
