| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-19页 |
| 1.1 研究背景 | 第8-9页 |
| 1.2 金刚石 | 第9-13页 |
| 1.2.1 金刚石简介 | 第9页 |
| 1.2.2 金刚石的性质及应用 | 第9-10页 |
| 1.2.3 金刚石的制备方法 | 第10-13页 |
| 1.2.4 掺硼金刚石的研究现状 | 第13页 |
| 1.3 石墨烯 | 第13-16页 |
| 1.3.1 石墨烯简介 | 第13-14页 |
| 1.3.2 石墨烯的性质及应用 | 第14-15页 |
| 1.3.3 石墨烯的制备方法 | 第15-16页 |
| 1.3.4 石墨烯的发展现状 | 第16页 |
| 1.4 表征手段 | 第16-18页 |
| 1.4.1 扫描电子显微镜技术 | 第17页 |
| 1.4.2 透射电子显微镜技术 | 第17页 |
| 1.4.3 X射线衍射技术 | 第17页 |
| 1.4.4 拉曼光谱技术 | 第17-18页 |
| 1.4.5 X射线光电子能谱分析技术 | 第18页 |
| 1.5 本文研究内容 | 第18-19页 |
| 第二章 多孔掺硼金刚石的制备及表征分析 | 第19-24页 |
| 2.1 多孔掺硼金刚石的制备 | 第19-21页 |
| 2.1.1 实验设备与材料简介 | 第19-20页 |
| 2.1.2 EA-CVD沉积金刚石的工艺操作 | 第20-21页 |
| 2.1.3 多孔掺硼金刚石的制备 | 第21页 |
| 2.2 多孔掺硼金刚石的表征与分析 | 第21-23页 |
| 2.2.1 多孔掺硼金刚石的扫描电镜(SEM)分析 | 第21-22页 |
| 2.2.2 多孔掺硼金刚石的Raman和XRD分析 | 第22-23页 |
| 2.3 小结 | 第23-24页 |
| 第三章 EA-CVD法制备石墨烯及生长特性 | 第24-32页 |
| 3.1 石墨烯的制备 | 第24-25页 |
| 3.1.1 EA-CVD法制备石墨烯的工艺 | 第24页 |
| 3.1.2 不同工艺参数及石墨烯样品的命名 | 第24-25页 |
| 3.2 石墨烯的表征及生长机理分析 | 第25-31页 |
| 3.2.1 石墨烯的扫描电镜(SEM)分析 | 第25-28页 |
| 3.2.2 石墨烯的透射电镜(TEM)分析 | 第28-29页 |
| 3.2.3 石墨烯的XRD和能谱分析 | 第29-30页 |
| 3.2.4 石墨烯的拉曼光谱(Raman)分析 | 第30页 |
| 3.2.5 石墨烯的X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第30-31页 |
| 3.3 小结 | 第31-32页 |
| 第四章 多孔掺硼金刚石的传感性能研究 | 第32-45页 |
| 4.1 研究背景 | 第32页 |
| 4.2 实验药品及仪器 | 第32-33页 |
| 4.2.1 实验药品 | 第32-33页 |
| 4.2.2 实验用品 | 第33页 |
| 4.3 电化学性能测试方法 | 第33-36页 |
| 4.3.1 PBDD电极的电荷转移动力学分析 | 第34-35页 |
| 4.3.2 电极的性能对比 | 第35-36页 |
| 4.4 多孔掺硼金刚石电化学传感性能测试及分析 | 第36-43页 |
| 4.4.1 不同pH值对同时检测三种物质的影响 | 第36-37页 |
| 4.4.2 三种物质的单独检测 | 第37-39页 |
| 4.4.3 三种物质的选择性检测 | 第39-40页 |
| 4.4.4 同时检测DA、UA及Trp | 第40-41页 |
| 4.4.5 电极的稳定性检测 | 第41-42页 |
| 4.4.6 无机物和生物分子的干扰检测 | 第42-43页 |
| 4.4.7 实物检测 | 第43页 |
| 4.5 小结 | 第43-45页 |
| 第五章 总结与展望 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-52页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53页 |
