摘要 | 第5-7页 |
abstract | 第7-10页 |
第一章 绪论 | 第14-28页 |
1.1 前言 | 第14页 |
1.2 半导体材料光催化的原理 | 第14-16页 |
1.3 卤化氧铋材料的研究进展 | 第16-20页 |
1.3.1 卤化氧铋材料共性及特点 | 第16-18页 |
1.3.2 影响卤化氧铋材料光催化活性的因素 | 第18-20页 |
1.4 卤化氧铋材料的改性手段研究 | 第20-26页 |
1.4.1 碳基材料的负载 | 第20-21页 |
1.4.2 金属离子的掺杂 | 第21-22页 |
1.4.3 半导体的复合 | 第22-26页 |
1.5 论文选题依据与研究内容 | 第26-28页 |
1.5.1 选题依据 | 第26-27页 |
1.5.2 研究内容 | 第27-28页 |
第二章 卤素对于价带最大值的调控以及对于卤化氧铋材料光催化能力的影响 | 第28-51页 |
2.1 引言 | 第28页 |
2.2 实验部分 | 第28-32页 |
2.2.1 实验仪器与试剂 | 第28-30页 |
2.2.2 BiOX光催化剂的制备 | 第30页 |
2.2.3 BiOX光催化剂的表征 | 第30-31页 |
2.2.4 光催化降解实验 | 第31-32页 |
2.2.5 自由基抑制实验与自由基捕获实验 | 第32页 |
2.3 结果与讨论 | 第32-49页 |
2.3.1 BiOX材料的理化特性 | 第32-39页 |
2.3.2 卤氧铋材料对于带不同电性有机污染物降解的有效性 | 第39-43页 |
2.3.3 反应体系中自由基的生成 | 第43-46页 |
2.3.4 卤素对于价带最大值的调节作用 | 第46-49页 |
2.4 小结 | 第49-51页 |
第三章 AgI-BiOI复合光催化剂的制备及光催化降解有机物性能的研究 | 第51-78页 |
3.1 引言 | 第51页 |
3.2 实验部分 | 第51-56页 |
3.2.1 实验仪器与试剂 | 第51-53页 |
3.2.2 催化剂的制备 | 第53页 |
3.2.3 催化剂的表征 | 第53-54页 |
3.2.4 光催化实验及分析 | 第54页 |
3.2.5 自由基抑制实验与自由基捕获实验 | 第54-55页 |
3.2.6 毒理测试 | 第55-56页 |
3.3 结果与讨论 | 第56-77页 |
3.3.1 催化剂的理化特性 | 第56-63页 |
3.3.2 AgI掺杂量对于AgI-BiOI复合材料光催化效率的影响 | 第63-65页 |
3.3.3 环境因素对于材料光催化降解效果的影响 | 第65-68页 |
3.3.4 光照条件对于材料光催化降解速率的影响 | 第68-71页 |
3.3.5 材料的光电特性 | 第71-73页 |
3.3.6 光催化降解机理 | 第73-74页 |
3.3.7 AgI-BiOI(1-8)材料的稳定性 | 第74-76页 |
3.3.8 毒理学分析 | 第76-77页 |
3.4 小结 | 第77-78页 |
第四章 结论与展望 | 第78-80页 |
4.1 结论 | 第78-79页 |
4.2 创新点 | 第79页 |
4.3 展望 | 第79-80页 |
参考文献 | 第80-88页 |
附录 | 第88-89页 |
致谢 | 第89-90页 |