| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-29页 |
| 1.1 引言 | 第12页 |
| 1.2 半导体光催化机理 | 第12-13页 |
| 1.3 氟化铋(BiF_3)光催化剂的研究 | 第13-16页 |
| 1.3.1 BiF_3基本性质 | 第13-14页 |
| 1.3.2 BiF_3粉体光催化剂 | 第14-16页 |
| 1.4 Bi基光催化薄膜材料 | 第16-25页 |
| 1.4.1 光催化薄膜的制备方法 | 第17-22页 |
| 1.4.2 Bi基光催化薄膜的研究进展 | 第22-24页 |
| 1.4.3 原位合成Bi基光催化薄膜的优势及研究进展 | 第24-25页 |
| 1.5 提高BiF_3薄膜光催化性能的途径和方法 | 第25-26页 |
| 1.6 本论文研究的主要内容及意义 | 第26-29页 |
| 第二章 实验部分 | 第29-35页 |
| 2.1 试剂与仪器 | 第29-30页 |
| 2.2 电化学原位合成BiF_3光催化薄膜的制备 | 第30页 |
| 2.3 Pd/BIF_3光催化薄膜的制备 | 第30-31页 |
| 2.4 BiF_3光催化薄膜的表征 | 第31-32页 |
| 2.4.1 X射线衍射表征 | 第31页 |
| 2.4.2 扫描电镜表征 | 第31页 |
| 2.4.3 透射电镜表征 | 第31页 |
| 2.4.4 紫外-可见漫反射光谱 | 第31-32页 |
| 2.4.5 X射线光电子能谱 | 第32页 |
| 2.4.6 瞬态光电流测试 | 第32页 |
| 2.5 光催化活性评价 | 第32-35页 |
| 2.5.1 光催化实验方法 | 第32页 |
| 2.5.2 RhB溶液的紫外-可见光谱及标准曲线 | 第32-35页 |
| 第三章 电化学原位合成BiF_3薄膜及其光催化性能研究 | 第35-45页 |
| 3.1 引言 | 第35-36页 |
| 3.2 实验部分 | 第36-37页 |
| 3.2.1 电化学原位合成BiF_3薄膜的制备方法 | 第36页 |
| 3.2.2 样品的表征 | 第36-37页 |
| 3.2.3 光催化实验方法 | 第37页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第37-42页 |
| 3.3.1 XRD分析 | 第37-38页 |
| 3.3.2 SEM分析 | 第38页 |
| 3.3.3 TEM分析 | 第38-39页 |
| 3.3.4 UV-Vis分析 | 第39-40页 |
| 3.3.5 活性和稳定性测试 | 第40页 |
| 3.3.6 理论计算结果 | 第40-41页 |
| 3.3.7 BiF_3薄膜形成机理 | 第41-42页 |
| 3.4 本章小结 | 第42-45页 |
| 第四章 Pd/BiF_3薄膜的制备及其光催化性能研究 | 第45-55页 |
| 4.1 引言 | 第45-46页 |
| 4.2 实验部分 | 第46-47页 |
| 4.2.1 试剂 | 第46页 |
| 4.2.2 仪器 | 第46页 |
| 4.2.3 实验过程 | 第46-47页 |
| 4.2.4 催化剂的评价 | 第47页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第47-53页 |
| 4.3.1 XRD分析 | 第47-48页 |
| 4.3.2 XPS分析 | 第48页 |
| 4.3.3 SEM分析 | 第48-49页 |
| 4.3.4 TEM分析 | 第49-50页 |
| 4.3.5 瞬态光电流分析 | 第50-51页 |
| 4.3.6 DRS分析 | 第51页 |
| 4.3.7 活性和稳定性测试 | 第51-52页 |
| 4.3.8 捕获剂实验 | 第52-53页 |
| 4.3.9 光催化反应机理 | 第53页 |
| 4.4 本章小结 | 第53-55页 |
| 第五章 结论与展望 | 第55-57页 |
| 5.1 主要结论 | 第55-56页 |
| 5.2 工作展望 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-73页 |
| 致谢 | 第73-75页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文 | 第75页 |
