| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 引言 | 第8-15页 |
| 1.1 超重元素及核素研究 | 第8-10页 |
| 1.2 制靶与超重研究 | 第10-11页 |
| 1.3 国内超重核研究及制靶现状 | 第11-15页 |
| 第二章 靶的制备技术 | 第15-19页 |
| 2.1 滚压法 | 第15页 |
| 2.2 点滴法 | 第15页 |
| 2.3 真空蒸发法 | 第15-16页 |
| 2.4 离子溅射法 | 第16-17页 |
| 2.5 电沉积法 | 第17-19页 |
| 2.5.1 分子镀技术 | 第17页 |
| 2.5.2 分子镀技术的原理分析 | 第17-19页 |
| 第三章 扇形钍靶的制备 | 第19-32页 |
| 3.1 扇形钍靶制备需求 | 第19页 |
| 3.2 实验 | 第19-24页 |
| 3.2.1 主要试剂及分子镀原料配置 | 第19-20页 |
| 3.2.2 主要仪器 | 第20-21页 |
| 3.2.3 靶衬的选择及表面预处理 | 第21-22页 |
| 3.2.4 钍靶制备过程 | 第22页 |
| 3.2.5 钍靶分子镀效率的测量方法 | 第22-24页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第24-29页 |
| 3.3.1 电流密度对分子镀效率的影响 | 第24-25页 |
| 3.3.2 分子镀时间对效率的影响 | 第25-26页 |
| 3.3.3 分子镀体系中体系酸度对靶镀层的影响 | 第26-27页 |
| 3.3.4 扇形232Th靶的分子镀制备条件及靶厚数据 | 第27-29页 |
| 3.4 钍靶在超重核研究中的应用 | 第29-31页 |
| 3.5 本章小结 | 第31-32页 |
| 第四章 钍靶镀层的微观形貌及化学成分分析 | 第32-37页 |
| 4.1 钍靶镀层微观形貌分析 | 第32-33页 |
| 4.2 镀层化学成分分析 | 第33-35页 |
| 4.3 镀层化学组成分析 | 第35-36页 |
| 4.4 本章小结 | 第36-37页 |
| 第五章 钛箔上镅靶的制备探索 | 第37-49页 |
| 5.1 钕靶的制备——模拟镅靶制备冷实验 | 第37-44页 |
| 5.1.1 研究目的 | 第37页 |
| 5.1.2 实验仪器及试剂 | 第37-38页 |
| 5.1.3 钕靶制备过程 | 第38页 |
| 5.1.4 钕靶分子镀效率及靶厚的测量方法 | 第38-39页 |
| 5.1.5 结果与讨论 | 第39-44页 |
| 5.2 在钛箔上制备243Am靶 | 第44-47页 |
| 5.2.1 镅靶的制备 | 第44-45页 |
| 5.2.2 镅靶靶厚的测量方法 | 第45页 |
| 5.2.3 镅靶的制备条件及结果 | 第45-47页 |
| 5.3 本章小结 | 第47-49页 |
| 第六章 总结与展望 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-56页 |
| 致谢 | 第56页 |