摘要 | 第3-4页 |
Abstract | 第4-5页 |
第一章 概述 | 第6-11页 |
第一节 模拟的锗硅HBT结构介绍 | 第6-7页 |
第二节 模拟软件介绍 | 第7-8页 |
第三节 工艺及器件模拟流程介绍 | 第8-9页 |
第四节 工艺及器件模拟的校准介绍 | 第9-11页 |
第二章 工艺模拟 | 第11-28页 |
第一节 工艺模拟中使用的模型介绍 | 第11-17页 |
第二节 工艺模拟过程 | 第17-26页 |
第三节 工艺模拟中的网格控制 | 第26-28页 |
第三章 工艺模拟的校准方法探讨 | 第28-36页 |
第一节 在线校准 | 第28-29页 |
第二节 掺杂形貌校准 | 第29-34页 |
第三节 利用测试的CV结果对PN节进行校准 | 第34-36页 |
第四章 器件特性模拟 | 第36-54页 |
第一节 器件模拟中使用的模型 | 第36-41页 |
第二节 器件模拟中求解的方程 | 第41-42页 |
第三节 器件模拟中网格的优化和控制 | 第42-44页 |
第四节 器件模拟各个特性的模拟方法 | 第44-54页 |
第五章 器件模拟的校准方法探讨 | 第54-75页 |
第一节 Gummel曲线的校准 | 第54-62页 |
第二节 ICVC曲线校准 | 第62-66页 |
第四节 BVceo,BVcbo及BVebo校准方法探讨 | 第66-72页 |
第五节 cutoff Frequency校准方法探讨 | 第72-75页 |
第六章 利用校准后的流程对新器件的特性进行模拟和预测 | 第75-76页 |
第七章 全文结论与展望 | 第76-78页 |
参考文献 | 第78-80页 |
致谢 | 第80-81页 |