| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-21页 |
| ·等离子体浸没离子注入与沉积技术 | 第13-17页 |
| ·等离子体浸没离子注入与沉积设备原理 | 第14-15页 |
| ·等离子体浸没离子注入与沉积技术的特点 | 第15-16页 |
| ·等离子体浸没离子注入与沉积技术的各类应用 | 第16-17页 |
| ·低压高频等离子体浸没离子注入及氮化技术 | 第17-18页 |
| ·低压高频等离子体浸没离子注入及氮化技术的发展 | 第17页 |
| ·低压高频等离子体浸没离子注入及氮化技术的应用 | 第17-18页 |
| ·DLC薄膜的性质及等离子体浸没离子注入与沉积的合成技术 | 第18-19页 |
| ·DLC薄膜的性质 | 第18-19页 |
| ·等离子体浸没离子注入与沉积技术合成DLC薄膜的发展 | 第19页 |
| ·本论文的研究目及内容 | 第19-21页 |
| 第2章 实验方案及内容 | 第21-27页 |
| ·样品预处理及改性层的制备 | 第21-22页 |
| ·薄膜厚度的测量 | 第22页 |
| ·改性层的成分、结构及形貌分析 | 第22-24页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第22-23页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第23页 |
| ·激光拉曼谱(Raman) | 第23页 |
| ·SEM形貌分析及EDS能谱分析 | 第23-24页 |
| ·改性层的机械性能评价 | 第24-26页 |
| ·显微硬度测量 | 第24页 |
| ·摩擦磨损性能评价 | 第24-25页 |
| ·膜基结合力评价 | 第25-26页 |
| ·化学腐蚀性能评价 | 第26-27页 |
| 第3章 低压高频等离子浸没离子注入及氮化对COCRMO合金氮化处理的研究 | 第27-40页 |
| ·工作气压对改性层性能的影响 | 第27-33页 |
| ·XRD结果及分析 | 第27-28页 |
| ·XPS结果分析 | 第28-29页 |
| ·氮化层断面的SEM | 第29-30页 |
| ·显微硬度分析 | 第30-31页 |
| ·摩擦磨损性能评价 | 第31-33页 |
| ·电化学腐蚀性能分析 | 第33页 |
| ·射频功率对改性层性能的影响 | 第33-38页 |
| ·氮化层的X射线衍射(XRD)结果及分析 | 第33-34页 |
| ·氮化层的光电子能谱(XPS)结果及分析 | 第34-35页 |
| ·断面SEM相貌分析 | 第35-36页 |
| ·显微硬度分析 | 第36-37页 |
| ·摩擦磨损性能分析 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-40页 |
| 第4章 使用高压低频等离子体浸没离子注入与沉积技术在COCRMO合金表面沉积DLC薄膜的研究 | 第40-60页 |
| ·Ar含量对DLC薄膜结构和性能的影响 | 第41-52页 |
| ·拉曼光谱(Raman)结果分析 | 第41-42页 |
| ·光电子能谱(XPS)结果及分析 | 第42-43页 |
| ·结合力讨论与分析 | 第43-47页 |
| ·改性层的显微硬度分析 | 第47-48页 |
| ·摩擦磨损结果与分析 | 第48-52页 |
| ·电化学极化曲线 | 第52页 |
| ·偏压对DLC薄膜结构和性能的影响 | 第52-59页 |
| ·拉曼光谱(Raman)结果分析 | 第52-53页 |
| ·光电子能谱(XPS)结果及分析 | 第53-54页 |
| ·结合力结果及分析 | 第54-56页 |
| ·改性层的显微硬度分析 | 第56-57页 |
| ·摩擦磨损结果与分析 | 第57-58页 |
| ·电化学腐蚀性能评价 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第5章 等离子体氮化与DLC薄膜沉积复合处理COCRMO与UHMWPE对磨的磨损性能预实验 | 第60-64页 |
| ·CoCrMo的复合处理 | 第60页 |
| ·工艺参数 | 第60页 |
| ·CoCrMo与UHMWPE对磨的摩擦磨损实验结果 | 第60-63页 |
| ·UHMWPE的磨损形貌 | 第60-62页 |
| ·CoCrMo的表面磨损形貌 | 第62-63页 |
| ·小结 | 第63-64页 |
| 结论 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-72页 |
| 学位期间发表的论文及科研成果 | 第72页 |
