| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 课题研究背景 | 第10-12页 |
| 1.1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.1.2 铝基板国内外应用现状 | 第11-12页 |
| 1.2 IPM 用铝基板传统的阳极氧化表面处理技术 | 第12-15页 |
| 1.2.1 阳极氧化表面处理技术简介 | 第12-14页 |
| 1.2.2 铝阳极氧化表面处理工艺及其特点 | 第14-15页 |
| 1.2.3 目前阳极氧化法制备铝基板所存在问题 | 第15页 |
| 1.3 本课题拟采用的 IPM 铝基板表面处理技术 | 第15-20页 |
| 1.3.1 微弧氧化表面处理技术简介 | 第16-18页 |
| 1.3.2 铝微弧氧化表面处理技术基本原理 | 第18-19页 |
| 1.3.3 铝微弧氧化表面处理工艺 | 第19-20页 |
| 1.4 本课题的创新点及主要研究内容 | 第20-22页 |
| 第二章 IPM 用铝基板微弧氧化膜层制备实验材料及设备 | 第22-30页 |
| 2.1 课题研究技术路线 | 第22-23页 |
| 2.2 实验材料 | 第23页 |
| 2.3 实验用设备和仪器 | 第23-24页 |
| 2.4 铝基板微弧氧化膜层的制备过程 | 第24-26页 |
| 2.4.1 实验用微弧氧化电源装置介绍 | 第24-25页 |
| 2.4.2 铝基板微弧氧化陶瓷膜的制备流程 | 第25-26页 |
| 2.5 铝基板微弧氧化陶瓷膜的性能测试及组织表征 | 第26-30页 |
| 2.5.1 微弧氧化膜层的表面微观形貌和膜层厚度 | 第26-27页 |
| 2.5.2 微弧氧化膜层的相组成 | 第27页 |
| 2.5.3 微弧氧化膜层的绝缘性能测试 | 第27页 |
| 2.5.4 微弧氧化膜层与封装材料之间的粘合性能测试 | 第27-28页 |
| 2.5.5 膜层耐腐蚀性能测试 | 第28页 |
| 2.5.6 膜层表面粗糙度测试 | 第28-29页 |
| 2.5.7 膜层表面孔隙率的测量 | 第29-30页 |
| 第三章 铝基板微弧氧化膜层的微观形貌和性能分析 | 第30-36页 |
| 3.1 前言 | 第30-31页 |
| 3.2 初步实验成果 | 第31-35页 |
| 3.2.1 微弧氧化膜层的微观形貌分析 | 第32页 |
| 3.2.2 微弧氧化膜层的粘合性能 | 第32-33页 |
| 3.2.3 微弧氧化膜层绝缘性能 | 第33-34页 |
| 3.2.4 调整工艺参数 | 第34-35页 |
| 3.3 本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章 IPM 用铝基板微弧氧化处理工艺优化 | 第36-54页 |
| 4.1 前言 | 第36页 |
| 4.2 铝基板微弧氧化电解液浓度优化 | 第36-44页 |
| 4.2.1 Na_2SiO_3浓度对铝基板微弧氧化膜层的影响 | 第36-39页 |
| 4.2.1.1 Na_2SiO_3浓度对膜层粘合性能的影响 | 第37-38页 |
| 4.2.1.2 Na_2SiO_3浓度对膜层绝缘性能的影响 | 第38-39页 |
| 4.2.2 NaOH 浓度对铝基板微弧氧化膜层的影响 | 第39-42页 |
| 4.2.2.1 NaOH 浓度对膜层粘合性能的影响 | 第40-41页 |
| 4.2.2.2 NaOH 浓度对膜层绝缘性能的影响 | 第41-42页 |
| 4.2.3 添加剂 A 浓度对铝基板微弧氧化膜层的影响 | 第42-44页 |
| 4.2.3.1 添加剂 A 对膜层粘合性能的影响 | 第42-43页 |
| 4.2.3.2 添加剂 A 对膜层绝缘性能的影响 | 第43-44页 |
| 4.3 铝基板微弧氧化电参数优化 | 第44-53页 |
| 4.3.1 电流密度对铝基板微弧氧化膜层的影响 | 第45-47页 |
| 4.3.1.1 电流密度对膜层粘合性能的影响 | 第45-46页 |
| 4.3.1.2 电流密度对膜层绝缘性能的影响 | 第46-47页 |
| 4.3.2 脉冲占空比对铝基板微弧氧化膜层的影响 | 第47-51页 |
| 4.3.2.1 脉冲占空比对膜层粘合性能的影响 | 第48-49页 |
| 4.3.2.2 脉冲占空比对膜层绝缘性能的影响 | 第49-51页 |
| 4.3.3 脉冲频率对铝基板微弧氧化膜层的影响 | 第51-53页 |
| 4.3.3.1 脉冲频率对膜层粘合性能的影响 | 第51-52页 |
| 4.3.3.2 脉冲频率对膜层绝缘性能的影响 | 第52-53页 |
| 4.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 第五章 IPM 用铝基板微弧氧化膜层微观形貌及性能 | 第54-59页 |
| 5.1 不同氧化时间下微弧氧化膜层微观形貌 | 第54-55页 |
| 5.2 不同氧化时间下微弧氧化膜层的粘合、绝缘及导热性能 | 第55页 |
| 5.3 微弧氧化膜层相组成分析 | 第55-56页 |
| 5.4 IPM 用铝基板微弧氧化膜层耐蚀性能 | 第56-57页 |
| 5.5 本章小结 | 第57-59页 |
| 全文总结 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 附件 | 第66页 |
