| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 插图索引 | 第10-11页 |
| 附表索引 | 第11-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-27页 |
| 1.1 前言 | 第12-13页 |
| 1.2 CMP技术研究现状 | 第13-21页 |
| 1.2.1 CMP技术简介 | 第13-18页 |
| 1.2.2 CMP机理研究进展 | 第18-21页 |
| 1.3 CMP抛光液及调配 | 第21-25页 |
| 1.3.1 CMP抛光粉体组成和抛光液的调配 | 第21页 |
| 1.3.2 纳米粉体在液体中的分散 | 第21-25页 |
| 1.4 选题意义及研究内容 | 第25-27页 |
| 1.4.1 研究的意义 | 第25-26页 |
| 1.4.2 主要研究内容 | 第26-27页 |
| 第2章 实验研究与表征方法 | 第27-32页 |
| 2.1 实验原料 | 第27页 |
| 2.2 实验试剂和仪器 | 第27-28页 |
| 2.3 抛光液的配制 | 第28-29页 |
| 2.3.1 CeO_2抛光粉的表面改性 | 第28页 |
| 2.3.2 抛光液的配制 | 第28-29页 |
| 2.4 CeO_2抛光粉的表征与抛光性能测试 | 第29-32页 |
| 2.4.1 Zeta电位分析 | 第29页 |
| 2.4.2 红外光谱分析 | 第29页 |
| 2.4.3 形貌分析 | 第29页 |
| 2.4.4 粒度分析 | 第29-30页 |
| 2.4.5 悬浮性评价 | 第30页 |
| 2.4.6 流变性测试 | 第30页 |
| 2.4.7 物相分析 | 第30页 |
| 2.4.8 抛光性能测试 | 第30-32页 |
| 第3章 稀土抛光粉的表面改性及抛光性能研究 | 第32-42页 |
| 3.1 前言 | 第32页 |
| 3.2 实验结果与分析 | 第32-41页 |
| 3.2.1 高分子分散剂对抛光液Zeta电位的影响 | 第32-33页 |
| 3.2.2 改性前后抛光粉的红外光谱 | 第33-34页 |
| 3.2.3 改性前后抛光粉的表面性质 | 第34-35页 |
| 3.2.4 PEI对抛光粉分散性和稳定性的影响 | 第35-37页 |
| 3.2.5 PEI对抛光液流变性能的影响 | 第37-38页 |
| 3.2.6 PEI改性对抛光液抛光性能的影响 | 第38-39页 |
| 3.2.7 促进作用机理分析 | 第39-41页 |
| 3.3 本章小结 | 第41-42页 |
| 第4章 电解质对抛光粉分散性及抛光性能的影响 | 第42-48页 |
| 4.1 前言 | 第42页 |
| 4.2 实验结果与分析 | 第42-46页 |
| 4.2.1 电解质对CeO_2抛光粉颗粒表面Zeta电位的影响 | 第42-43页 |
| 4.2.2 电解质对CeO_2抛光液粒度分布的影响 | 第43-44页 |
| 4.2.3 电解质对CeO_2抛光液悬浮稳定性的影响 | 第44-45页 |
| 4.2.4 电解质对CeO_2抛光液抛光性能的影响 | 第45页 |
| 4.2.5 促进作用机理分析 | 第45-46页 |
| 4.3 本章小结 | 第46-48页 |
| 第5章 CMP稀土抛光液的配制及其抛光效果研究 | 第48-57页 |
| 5.1 前言 | 第48页 |
| 5.2 实验结果与分析 | 第48-56页 |
| 5.2.1 抛光粉的形貌对抛光效果的影响 | 第48-51页 |
| 5.2.2 抛光液的浓度对抛光效率的影响 | 第51页 |
| 5.2.3 抛光液的配制及抛光性能分析 | 第51-54页 |
| 5.2.4 玻璃表面CMP抛光机理分析 | 第54-56页 |
| 5.3 本章小结 | 第56-57页 |
| 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 附录A 攻读硕士学位期间所发表的学术论文 | 第64页 |
