| 中文摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 符号说明 | 第9-10页 |
| 前言 | 第10-19页 |
| 分子印迹聚合物研究进展 | 第10-11页 |
| 分子印迹原理 | 第11页 |
| 分子印迹聚合物的制备技术 | 第11-13页 |
| 分子印迹聚合物的制备方法 | 第13-14页 |
| 分子印迹聚合物的性质及应用 | 第14页 |
| 整体柱技术 | 第14-15页 |
| 波聚合的国内外发展现状 | 第15-16页 |
| 选题意义及研究内容 | 第16-19页 |
| 第一章 波聚合制备S-氧氟沙星分子印迹聚合物及其性能评价 | 第19-37页 |
| 1.1 引言 | 第19-20页 |
| 1.2 实验部分 | 第20-26页 |
| 1.2.1 仪器 | 第20页 |
| 1.2.2 试剂 | 第20-21页 |
| 1.2.3 S-氧氟沙星分子印迹聚合物的制备 | 第21-23页 |
| 1.2.4 平衡吸附实验 | 第23-24页 |
| 1.2.5 吸附动力学实验 | 第24页 |
| 1.2.6 选择性实验 | 第24-25页 |
| 1.2.7 溶胀实验 | 第25页 |
| 1.2.8 热稳定性实验 | 第25页 |
| 1.2.9 形貌表征 | 第25-26页 |
| 1.3 结果与讨论 | 第26-36页 |
| 1.3.1 平衡吸附实验 | 第26-27页 |
| 1.3.2 吸附动力学实验 | 第27-28页 |
| 1.3.3 选择性实验 | 第28-31页 |
| 1.3.4 溶胀实验 | 第31-32页 |
| 1.3.5 热稳定性实验 | 第32-33页 |
| 1.3.6 形貌表征 | 第33-36页 |
| 1.4 小结 | 第36-37页 |
| 第二章 等温原位波聚合制备酮洛芬印迹整体柱 | 第37-70页 |
| 2.1 引言 | 第37-38页 |
| 2.2 仪器及试剂 | 第38-40页 |
| 2.2.1 仪器 | 第38页 |
| 2.2.2 试剂 | 第38-40页 |
| 2.3 酮洛芬印迹整体柱的制备 | 第40-42页 |
| 2.3.1 等温原位波聚合制备酮洛芬印迹整体柱 | 第40-41页 |
| 2.3.2 原位聚合法制备酮洛芬印迹整体柱 | 第41-42页 |
| 2.4 结果与讨论 | 第42-68页 |
| 2.4.1 酮洛芬印迹整体柱制备参数研究 | 第42-48页 |
| 2.4.2 酮洛芬印迹整体柱色谱参数研究 | 第48-61页 |
| 2.4.3 酮洛芬印迹整体柱的表征 | 第61-68页 |
| 2.5 小结 | 第68-70页 |
| 结论 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-82页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第82-83页 |
| 综述 | 第83-108页 |
| 综述参考文献 | 第99-108页 |
| 致谢 | 第108页 |