| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-26页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 石墨烯的结构及性能 | 第11页 |
| 1.3 石墨烯的制备方法与应用 | 第11-13页 |
| 1.4 不同过渡金属衬底上石墨烯生长的研究 | 第13-24页 |
| 1.4.1 金属Ru催化剂 | 第14-17页 |
| 1.4.2 金属Ir催化剂 | 第17-19页 |
| 1.4.3 金属Pt催化剂 | 第19-20页 |
| 1.4.4 金属Ni催化剂 | 第20-22页 |
| 1.4.5 金属Cu催化剂 | 第22-24页 |
| 1.5 本论文的研究内容和研究意义 | 第24-26页 |
| 1.5.1 本文的研究内容 | 第24页 |
| 1.5.2 本文的研究意义 | 第24-26页 |
| 第二章 实验材料与方法 | 第26-34页 |
| 2.1 实验原理 | 第26-27页 |
| 2.2 实验材料与所需设备 | 第27-28页 |
| 2.3 制备工艺 | 第28-29页 |
| 2.3.1 石墨烯生长工艺 | 第28页 |
| 2.3.2 石墨稀的转移工艺 | 第28-29页 |
| 2.4 表征方法 | 第29-33页 |
| 2.4.1 拉曼散射谱(Raman spectroscopy) | 第29-31页 |
| 2.4.2 光学显微镜 | 第31页 |
| 2.4.3 扫描电子显微镜(SEM) | 第31-32页 |
| 2.4.4 透射电子显微镱(TEM) | 第32-33页 |
| 2.4.5 原子力显微镜(AFM) | 第33页 |
| 2.4.6 能谱散射光谱 | 第33页 |
| 2.5 本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 铜镍双层复合衬底上CVD生长石墨烯的研究 | 第34-52页 |
| 3.1 引言 | 第34-35页 |
| 3.2 Cu-Ni双层复合衬底上石墨烯的制备 | 第35-37页 |
| 3.3 石墨烯的表征及分析结果 | 第37-49页 |
| 3.3.1 铜镍比例对石墨烯生长的影响 | 第37-42页 |
| 3.3.2 生长时间对石墨烯生长的影响 | 第42-48页 |
| 3.3.3 生长温度对石墨烯生长的影响 | 第48-49页 |
| 3.4 本章小结 | 第49-52页 |
| 第四章 在铜催化层底部生长石墨烯 | 第52-62页 |
| 4.1 引言 | 第52页 |
| 4.2 底部生长石墨烯的原理和制备 | 第52-54页 |
| 4.2.1 底部生长石墨烯的原理 | 第52-53页 |
| 4.2.2 底部生长石墨烯的制备 | 第53-54页 |
| 4.3 石墨烯的表征及结果分析 | 第54-60页 |
| 4.3.1 铜膜厚度对底部生长石墨烯的影响 | 第54-57页 |
| 4.3.2 生长压力对底部生长石墨烯的影响 | 第57-59页 |
| 4.3.3 生长时间对底部生长石墨烯的影响 | 第59-60页 |
| 4.4 本章小结 | 第60-62页 |
| 第五章 铁铂合金衬底上生长石墨烯薄膜 | 第62-70页 |
| 5.1 引言 | 第62页 |
| 5.2 铁铂合金衬底上石墨烯的制备 | 第62-64页 |
| 5.3 石墨烯的表征及结果分析 | 第64-67页 |
| 5.3.1 生长温度对石墨烯的影响 | 第64-65页 |
| 5.3.2 生长时间对石墨烯的影响 | 第65-66页 |
| 5.3.3 固态碳源对石墨烯的影响 | 第66-67页 |
| 5.4 本章小结 | 第67-70页 |
| 第六章 结论与展望 | 第70-73页 |
| 6.1 结论 | 第70-71页 |
| 6.2 展望 | 第71-73页 |
| 致谢 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-83页 |
| 附录 攻读硕士学位期间发表论文目录及获得奖励 | 第83页 |
| 一、发表相关论文 | 第83页 |
| 二、获得相关奖励 | 第83页 |