摘要 | 第4-5页 |
abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第11-25页 |
1.1 蓝宝石概述 | 第11-13页 |
1.1.1 蓝宝石的性质 | 第11-12页 |
1.1.2 蓝宝石的制备、应用与不足 | 第12-13页 |
1.2 蓝宝石表面抗反射技术 | 第13-21页 |
1.2.1 薄膜抗反射技术 | 第13-17页 |
1.2.2 微结构抗反射技术 | 第17-20页 |
1.2.3 薄膜/微结构抗反射技术 | 第20-21页 |
1.3 氧化钇概述 | 第21-23页 |
1.3.1 氧化钇薄膜的性质 | 第21-22页 |
1.3.2 氧化钇薄膜的研究现状 | 第22-23页 |
1.4 本文研究意义与内容 | 第23-25页 |
1.4.1 研究意义 | 第23-24页 |
1.4.2 研究内容 | 第24-25页 |
第二章 实验材料、设备及方法 | 第25-30页 |
2.1 总体研究方案 | 第25页 |
2.2 实验材料与设备 | 第25-26页 |
2.3 制备方法与流程 | 第26-28页 |
2.3.1 反应磁控溅射主要参数 | 第26-27页 |
2.3.2 样品制备工艺流程 | 第27-28页 |
2.4 性能表征方法 | 第28-30页 |
2.4.1 差示扫描量热法/热失重测试 | 第28页 |
2.4.2 X射线光电子能谱测试 | 第28页 |
2.4.3 掠入射X射线衍射测试 | 第28页 |
2.4.4 扫描电子显微镜测试 | 第28-29页 |
2.4.5 原子力显微镜测试 | 第29页 |
2.4.6 拉曼光谱测试 | 第29页 |
2.4.7 纳米压痕测试 | 第29页 |
2.4.8 椭偏仪测试 | 第29页 |
2.4.9 紫外可见近红外测试 | 第29页 |
2.4.10 傅立叶变换红外光谱测试 | 第29-30页 |
第三章 退火温度对氧化钇薄膜的影响 | 第30-45页 |
3.1 退火温度对氧化钇薄膜成分的影响 | 第30-35页 |
3.1.1 氧化钇薄膜的热分析 | 第30-31页 |
3.1.2 氧化钇薄膜的元素价态分析 | 第31-35页 |
3.2 退火温度对氧化钇薄膜微观形貌的影响 | 第35-40页 |
3.2.1 氧化钇薄膜的GIXRD分析 | 第35-36页 |
3.2.2 氧化钇薄膜的拉曼光谱分析 | 第36-37页 |
3.2.3 氧化钇薄膜的SEM分析 | 第37-38页 |
3.2.4 氧化钇薄膜的AFM分析 | 第38-40页 |
3.3 退火温度对氧化钇薄膜性能的影响 | 第40-43页 |
3.3.1 氧化钇薄膜纳米力学性能分析 | 第40-41页 |
3.3.2 氧化钇薄膜光学性能分析 | 第41-43页 |
3.4 小结 | 第43-45页 |
第四章 氧化钇薄膜对微结构表面蓝宝石光学性能的影响 | 第45-56页 |
4.1 蓝宝石光学性能的有限时域差分法分析 | 第45-50页 |
4.1.1 时域有限差分法(FDTD)简介 | 第45-46页 |
4.1.2 FDTD Solutions中的模型创建和参数设置 | 第46-48页 |
4.1.3 FDTD Solutions模拟计算结果 | 第48-50页 |
4.2 氧化钇薄膜/微结构表面蓝宝石的制备 | 第50-52页 |
4.3 氧化钇薄膜/微结构表面蓝宝石的光学性能研究 | 第52-55页 |
4.3.1 紫外可见近红外波段 | 第52-54页 |
4.3.2 中红外波段 | 第54-55页 |
4.4 小结 | 第55-56页 |
第五章 结论 | 第56-57页 |
参考文献 | 第57-64页 |
致谢 | 第64-65页 |
在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第65-66页 |