| 中文摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 前言 | 第10-11页 |
| 1.2 激光防护原理 | 第11-17页 |
| 1.2.1 基于相变原理的激光防护材料 | 第11页 |
| 1.2.2 基于线性光学原理的激光防护材料 | 第11-12页 |
| 1.2.2.1 吸收型 | 第11页 |
| 1.2.2.2 反射型 | 第11-12页 |
| 1.2.2.3 衍射（全息）式 | 第12页 |
| 1.2.3 基于非线性原理的激光防护材料 | 第12-17页 |
| 1.2.3.1 非线性界面 | 第12-13页 |
| 1.2.3.2 非线性吸收 | 第13-16页 |
| 1.2.3.2.1 反饱和吸收 | 第13-15页 |
| 1.2.3.2.2 双光子吸收 | 第15-16页 |
| 1.2.3.2.3 自由载流子吸收 | 第16页 |
| 1.2.3.3 非线性散射 | 第16页 |
| 1.2.3.4 非线性折射 | 第16-17页 |
| 1.3 光限幅材料 | 第17-20页 |
| 1.3.1 无机纳米材料 | 第17页 |
| 1.3.2 有机小分子材料 | 第17-19页 |
| 1.3.2.1 卟啉及其衍生物 | 第18页 |
| 1.3.2.2 酞菁及其衍生物 | 第18-19页 |
| 1.3.3 碳材料 | 第19-20页 |
| 1.3.3.1 富勒烯及其衍生物 | 第19页 |
| 1.3.3.2 碳纳米管及其衍生物 | 第19-20页 |
| 1.3.3.3 石墨烯及其衍生物 | 第20页 |
| 1.4 本论文的研究内容 | 第20-22页 |
| 第二章 石墨烯分散液及烷基化石墨烯的制备及光限幅性能的研究 | 第22-37页 |
| 2.1 石墨烯的制备方法 | 第22-24页 |
| 2.1.1 微机械剥离法 | 第22页 |
| 2.1.2 化学气相沉积法 | 第22-23页 |
| 2.1.3 液相超声剥离法 | 第23页 |
| 2.1.4 氧化还原法 | 第23-24页 |
| 2.2 石墨烯在溶剂中的光限幅性能研究 | 第24-30页 |
| 2.2.1 使用的四种溶剂简介及化学式 | 第24-25页 |
| 2.2.1.1 N-甲基吡咯烷酮（NMP） | 第24页 |
| 2.2.1.2 γ -羟基丁酸内酯（GBL） | 第24-25页 |
| 2.2.1.3 二甲基乙烯脲（DMI） | 第25页 |
| 2.2.1.4 苯甲酸苄酯（BBZ） | 第25页 |
| 2.2.2 浓度对石墨烯分散液光限幅性能的影响 | 第25-27页 |
| 2.2.3 不同溶剂对限幅性能的影响 | 第27-28页 |
| 2.2.4 石墨烯的尺寸对光限幅的影响 | 第28-30页 |
| 2.3 烷基化石墨烯在不同透明高分子聚合物中限幅性能的研究 | 第30-35页 |
| 2.3.1 烷基化石墨烯及 GO-ODA/聚合物薄膜的制备 | 第30-31页 |
| 2.3.1.1 氧化石墨烯的制备 | 第30-31页 |
| 2.3.1.2 烷基化石墨烯及 GO-ODA/聚合物薄膜的制备 | 第31页 |
| 2.3.2 烷基化石墨烯的表征 | 第31-34页 |
| 2.3.2.1 傅里叶红外光谱 | 第31-32页 |
| 2.3.2.2 核磁测试 | 第32页 |
| 2.3.2.3 热失重测试 | 第32-33页 |
| 2.3.2.4 溶解性 | 第33-34页 |
| 2.3.3 光限幅测试 | 第34-35页 |
| 本章小结 | 第35-37页 |
| 第三章 石墨烯与液晶、柱芳烃分子复合的光限幅研究 | 第37-55页 |
| 3.1 液晶与石墨烯复合光限幅研究 | 第37-46页 |
| 3.1.1 液晶在光限幅方面的简介 | 第37-38页 |
| 3.1.2 4-丙基- 4 -丁基二苯乙炔的合成 | 第38-41页 |
| 3.1.3 4-丙基- 4 -丁基二苯乙炔的表征 | 第41-43页 |
| 3.1.3.1 氢谱 | 第41页 |
| 3.1.3.2 碳谱 | 第41-42页 |
| 3.1.3.3 紫外光谱 | 第42-43页 |
| 3.1.3.4 光限幅测试 | 第43页 |
| 3.1.4 石墨烯-l34 复合材料的合成 | 第43-45页 |
| 3.1.4.1 3-(4-碘-苯基)-丙酸的合成 | 第43-44页 |
| 3.1.4.2 3-(4-碘-苯基)-丙酸甲酯的合成 | 第44页 |
| 3.1.4.3 3-[4-(4-丁基-苯乙炔基)-苯基]-丙酸乙酯 | 第44-45页 |
| 3.1.4.4 3-[4-(4-丁基-苯基乙炔)-苯基]-丙酸的合成 | 第45页 |
| 3.1.4.5 石墨烯 l34 复合材料的合成 | 第45页 |
| 3.1.5 石墨烯 l34 复合材料光限幅测试 | 第45-46页 |
| 3.2 柱芳烃与石墨烯复合光限幅研究 | 第46-54页 |
| 3.2.1 全羟基柱[5]与石墨烯复合材料的光限幅性能研究 | 第46-48页 |
| 3.2.1.1 傅里叶红外光谱 | 第47-48页 |
| 3.2.1.2 石墨烯-柱芳烃[5]的光限幅测试 | 第48页 |
| 3.2.2 共聚柱[5]芳烃的合成 | 第48-54页 |
| 3.2.2.1 双硒桥连共聚柱[5]芳烃的合成 | 第49页 |
| 3.2.2.2 客体分子的合成 | 第49-52页 |
| 3.2.2.3 客体分子的合成 | 第52-54页 |
| 3.2.3 主客体的组装 | 第54页 |
| 本章小结 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文 | 第63页 |
