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一维氧化钨纳米材料无催化剂生长的原位透射电镜研究

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第一章 绪论第11-51页
    1.1 引言第11-13页
    1.2 维纳米材料的基本特点第13-15页
        1.2.1 纳米材料的分类第13-14页
        1.2.2 一维纳米材料的特殊物理效应第14-15页
    1.3 一维纳米材料的制备技术与生长机理第15-24页
        1.3.1 一维纳米材料的制备方法第15-16页
        1.3.2 纳米线的生长机理第16-19页
        1.3.3 纳米管生长机理第19-22页
        1.3.4 W_(18)O_(49)一维纳米材料简介第22-24页
    1.4 一维纳米材料生长的原位电镜研究第24-48页
        1.4.1 电子显微镜简介第24-28页
        1.4.2 纳米线形核动力学研究第28-33页
        1.4.3 纳米线生长动力学第33-39页
        1.4.4 纳米线的控制生长第39-45页
        1.4.5 纳米管生长机理的原位电镜研究第45-48页
    1.5 本论文的选题背景和研究内容第48-51页
        1.5.1 选题背景第48-49页
        1.5.2 研究内容第49-51页
第二章 W_(18)O_(49)纳米线生长机理的原位电镜研究第51-77页
    2.1 引言第51-53页
    2.2 实验设备与方法第53-59页
        2.2.1 实验设备第53-58页
        2.2.2 实验方法第58-59页
    2.3 结果与分析第59-72页
        2.3.1 纳米线形貌与结构表征第59-60页
        2.3.2 纳米线气固生长机理证明第60-64页
        2.3.3 纳米线生长过程的原位TEM观察第64-69页
        2.3.4 W_(18)O_(49)各向异性生长的理论分析与计算第69-72页
    2.4 W_(18)O_(49)纳米线生长机理第72-75页
    2.5 本章小结第75-77页
第三章 W_(18)O_(49)纳米线生长动力学的原位电镜研究第77-95页
    3.1 引言第77页
    3.2 实验第77-78页
    3.3 结果与讨论第78-88页
        3.3.1 纳米线生长长度与时间的关系第78-79页
        3.3.2 电子束流密度对纳米线生长的影响第79-80页
        3.3.3 侧壁台阶流动对纳米线生长的影响第80-83页
        3.3.4 氧气压强对纳米线生长的影响第83-85页
        3.3.5 温度对纳米线生长的影响第85-88页
    3.4 纳米线顶部二维形核自相关性研究第88-92页
    3.5 本章小结第92-95页
第四章 W_(18)O_(49)纳米管生长机理的原位电镜研究第95-105页
    4.1 引言第95-96页
    4.2 实验第96-97页
    4.3 结果与分析第97-101页
        4.3.1 钨丝表面产物形貌第97-98页
        4.3.2 纳米管的TEM表征第98-99页
        4.3.3 纳米管形成过程的原位TEM观察第99-101页
    4.4 纳米管的生长机理讨论第101-102页
    4.5 本章小结第102-105页
第五章 总结与展望第105-107页
    5.1 总结第105-106页
    5.2 展望第106-107页
参考文献第107-125页
致谢第125-127页
个人简历第127-129页
攻读博士学位期间取得的研究成果第129页

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