摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第11-21页 |
1.1 四环素废水的研究现状 | 第11-13页 |
1.1.1 水体中四环素的来源 | 第11页 |
1.1.2 水体中四环素的危害 | 第11-12页 |
1.1.3 四环素废水处理方法 | 第12-13页 |
1.2 光催化技术发展现状 | 第13-16页 |
1.2.1 半导体光催化技术及原理 | 第13-14页 |
1.2.2 新型半导体光催化剂 | 第14页 |
1.2.3 钨酸铋及稀土复合钨酸铋的研究现状 | 第14-16页 |
1.3 催化剂的固定化及光催化反应器的研究现状 | 第16-18页 |
1.3.1 光催化剂固定化的研究现状 | 第16-17页 |
1.3.2 光催化反应器的研究现状 | 第17-18页 |
1.4 研究意义及主要内容 | 第18-21页 |
1.4.1 研究意义 | 第18-19页 |
1.4.2 研究内容及技术路线 | 第19-21页 |
第2章 实验材料与方法 | 第21-28页 |
2.1 主要试剂与原料 | 第21页 |
2.2 实验仪器 | 第21-22页 |
2.3 催化剂的制备 | 第22-24页 |
2.3.1 CeO_2/Bi_2WO_6催化剂的制备 | 第22-23页 |
2.3.2 浮石负载型CeO_2/Bi_2WO_6催化剂的制备 | 第23-24页 |
2.4 催化剂的表征测试方法 | 第24页 |
2.5 光催化活性评价方法 | 第24-26页 |
2.5.1 光催化活性测试装置 | 第24-25页 |
2.5.2 光催化活性评价方法 | 第25-26页 |
2.5.3 催化剂的稳定性评价 | 第26页 |
2.6 光催化反应器 | 第26-28页 |
第3章 CeO_2/Bi_2WO_6复合催化剂的制备及性能研究 | 第28-44页 |
3.1 CeO_2/Bi_2WO_6复合催化剂的表征分析 | 第28-37页 |
3.1.1 XRD图谱分析 | 第28-29页 |
3.1.2 SEM电镜分析 | 第29-31页 |
3.1.3 TEM电镜分析 | 第31-32页 |
3.1.4 XPS能谱分析 | 第32-34页 |
3.1.5 FT-IR光谱分析 | 第34-35页 |
3.1.6 BET吸附脱附曲线及比表面积分析 | 第35-36页 |
3.1.7 UV-vis图谱分析 | 第36-37页 |
3.2 可见光催化活性评价 | 第37-41页 |
3.2.1 可见光催化活性评价 | 第37-39页 |
3.2.2 可见光催化降解动力学 | 第39-40页 |
3.2.3 催化剂的稳定性评价 | 第40-41页 |
3.3 可见光催化机理分析 | 第41-44页 |
3.3.1 电化学阻抗谱图分析(EIS) | 第41-42页 |
3.3.2 光催化活性增强机理 | 第42-44页 |
第4章 CeO_2/Bi_2WO_6/浮石催化剂的制备及在反应器中的应用研究 | 第44-55页 |
4.1 负载型CeO_2/Bi_2WO_6/浮石催化剂的制备及表征分析 | 第44-47页 |
4.1.1 负载型CeO_2/Bi_2WO_6/浮石催化剂的制备条件的优化 | 第44页 |
4.1.2 负载型CeO_2/Bi_2WO_6/浮石催化剂的表征分析 | 第44-47页 |
4.2 负载型催化剂光催化活性评价 | 第47-50页 |
4.2.1 负载型复合催化剂的光催化活性评价 | 第47-48页 |
4.2.2 负载型复合催化剂的光催化稳定性评价 | 第48-50页 |
4.3 负载型CeO_2/Bi_2WO_6/浮石催化剂在光催化反应器中的应用 | 第50-55页 |
4.3.1 催化剂的投加量对光催化效果的影响 | 第50-51页 |
4.3.2 光源照度对光催化效果的影响 | 第51页 |
4.3.3 污染物初始浓度对光催化效果的影响 | 第51-52页 |
4.3.4 水力停留时间对光催化效果的影响 | 第52-53页 |
4.3.5 光催化反应器的稳定性分析 | 第53-55页 |
第5章 结论及建议 | 第55-57页 |
5.1 结论 | 第55-56页 |
5.2 建议 | 第56-57页 |
参考文献 | 第57-66页 |
作者简介及在学期间所取得的科研成果 | 第66-67页 |
致谢 | 第67页 |