| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 有机薄膜晶体管的研究背景 | 第10-11页 |
| 1.2 有机薄膜晶体管的研究历程与前沿分析 | 第11-14页 |
| 1.2.1 N型有机薄膜晶体管 | 第11-12页 |
| 1.2.2 P型有机薄膜晶体管 | 第12-13页 |
| 1.2.3 双极性有机薄膜晶体管 | 第13-14页 |
| 1.3 氧化物薄膜晶体管的研究历程与前沿分析 | 第14-15页 |
| 1.4 有机薄膜晶体管存在的问题 | 第15-16页 |
| 1.5 本论文的研究意义及研究工作 | 第16-18页 |
| 1.5.1 课题研究意义 | 第16页 |
| 1.5.2 本文章节结构安排 | 第16-18页 |
| 第二章 有机薄膜晶体管基础 | 第18-32页 |
| 2.1 有机薄膜晶体管的结构 | 第18-20页 |
| 2.2 有机薄膜晶体管的工作机理和参数 | 第20-24页 |
| 2.3 有机薄膜晶体管的材料 | 第24-28页 |
| 2.3.1 衬底材料 | 第24页 |
| 2.3.2 绝缘层材料 | 第24-25页 |
| 2.3.3 有源层材料 | 第25-28页 |
| 2.3.4 电极材料 | 第28页 |
| 2.4 成膜方法 | 第28-29页 |
| 2.5 OTFT的研究模型 | 第29-31页 |
| 2.5.1 能带模型 | 第29-30页 |
| 2.5.2 VRH模型 | 第30页 |
| 2.5.3 MTR模型 | 第30-31页 |
| 2.5.4 其他模型 | 第31页 |
| 2.6 本章小结 | 第31-32页 |
| 第三章 不同修饰层对有机薄膜晶体管性能的影响研究 | 第32-48页 |
| 3.1 基于HfO_x材料作为介电层有机薄膜晶体管的研究 | 第32-38页 |
| 3.1.1 基于HfO_x材料的有机薄膜晶体管的制备 | 第32-35页 |
| 3.1.2 基于HfO_x材料的有机薄膜晶体管的性能测试与分析 | 第35-38页 |
| 3.2 基于不同修饰层的有机薄膜晶体管的研究 | 第38-46页 |
| 3.2.1 基于不同修饰层的有机薄膜晶体管的制备 | 第39-40页 |
| 3.2.2 基于不同修饰层的有机薄膜晶体管的性能测试与分析 | 第40-46页 |
| 3.3 本章小节 | 第46-48页 |
| 第四章 基于不同HfO_x厚度的有机薄膜晶体管的制备与研究 | 第48-56页 |
| 4.1 基于不同HfO_x厚度的有机薄膜晶体管的制备 | 第48-49页 |
| 4.2 基于不同HfO_x厚度的有机薄膜晶体管的性能测试与分析 | 第49-55页 |
| 4.3 本章小结 | 第55-56页 |
| 第五章 总结与展望 | 第56-58页 |
| 5.1 工作总结 | 第56页 |
| 5.2 展望 | 第56-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-67页 |
| 攻读硕士期间的研究成果 | 第67-68页 |
