多孔二氧化钛薄膜的制备及其负载镍基甲烷化催化剂的性能研究
摘要 | 第3-5页 |
ABSTRACT | 第5-7页 |
第一章 绪论 | 第11-37页 |
1.1 引言 | 第11页 |
1.2 二氧化钛概述 | 第11-12页 |
1.3 二氧化钛薄膜的制备 | 第12-19页 |
1.3.1 溶胶凝胶法 | 第12-16页 |
1.3.1.1 普通溶胶凝胶法 | 第12-13页 |
1.3.1.2 溶剂挥发诱导自组装法 | 第13-16页 |
1.3.2 水热合成法 | 第16-17页 |
1.3.3 阳极氧化法 | 第17-18页 |
1.3.3.1 致密型多孔二氧化钛薄膜 | 第17-18页 |
1.3.3.2 多孔二氧化钛纳米管 | 第18页 |
1.3.4 热喷涂法 | 第18-19页 |
1.3.5 气相沉积法 | 第19页 |
1.3.5.1 物理气相沉积法(PVD) | 第19页 |
1.3.5.2 化学气相沉积法(CVD) | 第19页 |
1.4 甲烷化概述 | 第19-26页 |
1.4.1 CO甲烷化反应机理 | 第20-22页 |
1.4.2 CO甲烷化催化剂 | 第22-25页 |
1.4.2.1 活性组分 | 第22-23页 |
1.4.2.2 催化剂载体 | 第23-25页 |
1.4.2.3 助剂 | 第25页 |
1.4.3 甲烷化催化剂的失活 | 第25-26页 |
1.5 论文研究的目的和主要内容 | 第26-27页 |
1.5.1 研究目的 | 第26页 |
1.5.2 研究的主要内容 | 第26-27页 |
参考文献 | 第27-37页 |
第二章 实验部分 | 第37-45页 |
2.1 实验原料与仪器设备 | 第37-39页 |
2.2 甲烷化膜催化剂的制备方法 | 第39-40页 |
2.2.1 铝丝基体上多孔二氧化钛薄膜的制备 | 第39-40页 |
2.2.2 Ni基甲烷化膜催化剂的制备 | 第40页 |
2.3 甲烷化膜催化剂的性能评价 | 第40-45页 |
2.3.1 催化剂评价装置 | 第40-42页 |
2.3.2 评价方法与数据处理 | 第42-43页 |
2.3.3 薄膜及催化剂的表征 | 第43-45页 |
2.3.3.1 场发射扫描电镜(FE-SEM) | 第43页 |
2.3.3.2 透射电镜(TEM) | 第43页 |
2.3.3.3 X射线衍射(XRD) | 第43页 |
2.3.3.4 热重分析(TGA) | 第43页 |
2.3.3.5 N2等温吸附-脱附 | 第43-44页 |
2.3.3.6 程序升温还原(H_2-TPR) | 第44页 |
2.3.3.7 X射线光电子能谱(XPS) | 第44页 |
2.3.3.8 拉曼光谱分析 | 第44-45页 |
第三章 铝丝基体表面多孔二氧化钛薄膜的制备及表征 | 第45-61页 |
3.1 引言 | 第45页 |
3.2 结果与讨论 | 第45-58页 |
3.2.1 模板剂用量 | 第46-48页 |
3.2.2 陈化时间 | 第48-50页 |
3.2.3 热处理温度 | 第50-54页 |
3.2.4 混合模板剂 | 第54-58页 |
3.3 本章小结 | 第58-59页 |
参考文献 | 第59-61页 |
第四章 镍基甲烷化膜催化剂的表征及性能研究 | 第61-77页 |
4.1 引言 | 第61-62页 |
4.2 Ni/TiO_2膜催化剂的表征 | 第62-69页 |
4.2.1 XRD | 第62-63页 |
4.2.2 N2-吸附脱附 | 第63-64页 |
4.2.3 SEM | 第64页 |
4.2.4 EDS | 第64-66页 |
4.2.5 TEM | 第66页 |
4.2.6 H_2-TPR | 第66-67页 |
4.2.7 XPS | 第67-68页 |
4.2.8 拉曼光谱 | 第68-69页 |
4.3 Ni/TiO_2甲烷化膜催化剂的反应性能 | 第69-74页 |
4.3.1 反应活性 | 第69-70页 |
4.3.2 反应压力的影响 | 第70-71页 |
4.3.3 催化剂形态的影响 | 第71-72页 |
4.3.4 空速的影响 | 第72-73页 |
4.3.5 稳定性 | 第73-74页 |
4.4 本章小结 | 第74页 |
参考文献 | 第74-77页 |
第五章 结论及建议 | 第77-81页 |
5.1 主要结论 | 第77-78页 |
5.2 创新点及建议 | 第78-81页 |
5.2.1 创新点 | 第78页 |
5.2.2 建议 | 第78-81页 |
致谢 | 第81-83页 |
读硕士研究生期间发表的论文 | 第83页 |