| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 1 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 光催化反应的基本原理 | 第10-12页 |
| 1.3 光催化研究的发展历程 | 第12-13页 |
| 1.4 半导体光催化材料的研究现状 | 第13-14页 |
| 1.5 石墨相氮化碳（g-C_3N_4）的研究现状 | 第14-20页 |
| 1.5.1 g-C_3N_4的研究背景 | 第14-15页 |
| 1.5.2 g-C_3N_4的结构和性质 | 第15-16页 |
| 1.5.3 g-C_3N_4的合成方法 | 第16-18页 |
| 1.5.4 g-C_3N_4的改性方法 | 第18-19页 |
| 1.5.5 g-C_3N_4的光催化应用 | 第19-20页 |
| 1.6 本论文的研究目的、意义及内容 | 第20-21页 |
| 2 实验试剂、仪器及表征方法 | 第21-26页 |
| 2.1 实验试剂 | 第21-22页 |
| 2.2 实验仪器 | 第22-23页 |
| 2.3 光催化剂的表征方法 | 第23-24页 |
| 2.3.1 X射线衍射（XRD）分析 | 第23页 |
| 2.3.2 傅里叶红外光谱（FT-IR）分析 | 第23页 |
| 2.3.3 扫描电子显微镜（SEM）分析 | 第23页 |
| 2.3.4 透射电子显微镜（TEM）分析 | 第23页 |
| 2.3.5 比表面积测试分析 | 第23页 |
| 2.3.6 X射线光电子能谱（XPS）分析 | 第23-24页 |
| 2.3.7 紫外可见漫反射（UV-vis DRS）和荧光光谱图（PL）分析 | 第24页 |
| 2.3.8 电子顺磁共振波谱图（EPR）分析 | 第24页 |
| 2.3.9 瞬态光电流和交流阻抗实验 | 第24页 |
| 2.4 光催化活性评价 | 第24-26页 |
| 3 可见光增强型石墨相氮化碳（CN-THDTx）的合成及其光解水制氢性能的研究 | 第26-36页 |
| 3.1 引言 | 第26-27页 |
| 3.2 实验部分 | 第27-28页 |
| 3.2.1 g-C_3N_4的制备 | 第27页 |
| 3.2.2 CN-THDTx的制备 | 第27-28页 |
| 3.2.3 光催化剂活性评价 | 第28页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第28-35页 |
| 3.3.1 材料的结构表征 | 第28-30页 |
| 3.3.2 材料的表面形貌分析 | 第30页 |
| 3.3.3 材料的光学性质和能带结构分析 | 第30-32页 |
| 3.3.4 光解水制氢性能和稳定性实验 | 第32页 |
| 3.3.5 X射线光电子能谱（XPS）表征 | 第32-33页 |
| 3.3.6 光电性能测试 | 第33-35页 |
| 3.4 本章小结 | 第35-36页 |
| 4 可控缺陷型石墨相氮化碳的合成及其光解水制氢性能的研究 | 第36-53页 |
| 4.1 引言 | 第36-37页 |
| 4.2 实验部分 | 第37-38页 |
| 4.2.1 g-C_3N_4的制备 | 第37页 |
| 4.2.2 具有缺陷的石墨相氮化碳（CN-DT，CN-DMT，CN-DPT和CN-CDT）光催化材料的制备 | 第37页 |
| 4.2.3 光催化剂活性评价 | 第37-38页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第38-52页 |
| 4.3.1 材料的结构表征 | 第39-40页 |
| 4.3.2 材料的表面形貌分析 | 第40-42页 |
| 4.3.3 比表面积测试 | 第42-43页 |
| 4.3.4 X射线光电子能谱（XPS）表征 | 第43-44页 |
| 4.3.5 材料的光学性质和能带结构分析 | 第44-46页 |
| 4.3.6 影响材料光催化活性的因素 | 第46-48页 |
| 4.3.7 光电性能测试 | 第48页 |
| 4.3.8 可见光光解水制氢活性和稳定性实验 | 第48-52页 |
| 4.4 本章小结 | 第52-53页 |
| 5 一步法合成Co3O4/g-C_3N_4复合光催化材料及其光解水制氢性能的研究 | 第53-63页 |
| 5.1 引言 | 第53-54页 |
| 5.2 实验部分 | 第54-55页 |
| 5.2.1 g-C_3N_4的制备 | 第54页 |
| 5.2.2 Co3O4/g-C_3N_4复合光催化材料的制备 | 第54页 |
| 5.2.3 光催化剂活性评价 | 第54-55页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第55-62页 |
| 5.3.1 材料的结构表征 | 第55-56页 |
| 5.3.2 材料的表面形貌分析 | 第56-57页 |
| 5.3.3 可见光光解水制氢的实验 | 第57-58页 |
| 5.3.4 材料的光学性质分析 | 第58-59页 |
| 5.3.5 X射线光电子能谱（XPS）表征 | 第59-60页 |
| 5.3.6 影响材料光催化活性的因素 | 第60-62页 |
| 5.4 本章小结 | 第62-63页 |
| 总结与展望 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-81页 |
| 在读期间发表的论文 | 第81-82页 |
| 后记 | 第82-83页 |
