基于溶质—溶剂物系分子力场的可控结晶行为及关键调控机理研究
| 学位论文数据集 | 第3-4页 |
| 摘要 | 第4-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 第一章 文献综述 | 第19-45页 |
| 1.1 结晶 | 第19-23页 |
| 1.1.1 晶体定义及特性 | 第19-20页 |
| 1.1.2 晶系 | 第20-21页 |
| 1.1.3 晶习 | 第21-22页 |
| 1.1.4 粒度 | 第22页 |
| 1.1.5 晶型 | 第22-23页 |
| 1.2 溶液结晶过程 | 第23-27页 |
| 1.2.1 过饱和溶液的形成 | 第23-24页 |
| 1.2.2 结晶成核 | 第24-25页 |
| 1.2.3 晶体生长 | 第25-27页 |
| 1.3 影响溶液结晶的因素 | 第27-29页 |
| 1.3.1 过饱和度 | 第27页 |
| 1.3.2 晶种 | 第27-28页 |
| 1.3.3 溶剂 | 第28页 |
| 1.3.4 杂质或添加剂 | 第28-29页 |
| 1.4 结晶过程与分子模拟 | 第29-30页 |
| 1.5 分子模拟 | 第30-31页 |
| 1.5.1 分子力学方法 | 第30-31页 |
| 1.5.2 量子力学方法 | 第31页 |
| 1.5.3 分子动力学方法 | 第31页 |
| 1.5.4 蒙特卡洛法 | 第31页 |
| 1.6 分子模拟在结晶领域的应用研究进展 | 第31-41页 |
| 1.6.1 晶体结构预测 | 第32页 |
| 1.6.2 晶体衍射图谱计算 | 第32-33页 |
| 1.6.3 真空中理想晶习预测 | 第33-36页 |
| 1.6.4 溶剂体系实际晶习预测 | 第36-41页 |
| 1.7 本文所用分子模拟软件介绍 | 第41-42页 |
| 1.8 本文工作的目的、意义和研究内容 | 第42-45页 |
| 第二章 过饱和度对结晶的影响 | 第45-71页 |
| 2.1 引言 | 第45-46页 |
| 2.2 实验部分 | 第46-47页 |
| 2.2.1 实验原料 | 第46页 |
| 2.2.2 实验主要仪器 | 第46-47页 |
| 2.2.3 溶解度测定 | 第47页 |
| 2.2.4 冷却曲线测定 | 第47页 |
| 2.2.5 晶体制备 | 第47页 |
| 2.2.6 晶体表征 | 第47页 |
| 2.2.7 析晶后溶液浓度测定 | 第47页 |
| 2.3 模拟计算 | 第47-51页 |
| 2.3.1 理想晶习预测 | 第48-49页 |
| 2.3.2 修正模型建立 | 第49-50页 |
| 2.3.3 吸附位点和吸附能计算 | 第50-51页 |
| 2.4 结果与讨论 | 第51-69页 |
| 2.4.1 苯甲酸溶解度曲线 | 第51-52页 |
| 2.4.2 苯甲酸介稳区 | 第52-55页 |
| 2.4.3 苯甲酸实验晶体 | 第55-57页 |
| 2.4.4 苯甲酸理想晶习 | 第57-61页 |
| 2.4.5 苯甲酸修正晶习 | 第61-67页 |
| 2.4.6 水分子在各晶面的吸附 | 第67-69页 |
| 2.5 本章小结 | 第69-71页 |
| 第三章 溶剂效应对晶形的影响 | 第71-85页 |
| 3.1 引言 | 第71-72页 |
| 3.2 模拟计算 | 第72-75页 |
| 3.2.1 晶习预测 | 第72-74页 |
| 3.2.2 理论XRD结构计算 | 第74-75页 |
| 3.3 实验部分 | 第75-76页 |
| 3.3.1 实验原料 | 第75页 |
| 3.3.2 单晶培养 | 第75页 |
| 3.3.3 实验主要仪器 | 第75页 |
| 3.3.4 分析表征 | 第75-76页 |
| 3.4 结果与讨论 | 第76-83页 |
| 3.4.1 地红霉素溶剂化物晶体结构比较 | 第76-78页 |
| 3.4.2 不同溶剂中地红霉素预测晶习 | 第78-82页 |
| 3.4.3 不同溶剂中地红霉素实验晶习 | 第82-83页 |
| 3.5 本章小结 | 第83-85页 |
| 第四章 定量调控晶体生长 | 第85-115页 |
| 4.1 引言 | 第85-86页 |
| 4.2 模拟计算 | 第86-88页 |
| 4.3 实验部分 | 第88-90页 |
| 4.3.1 实验原料 | 第88-89页 |
| 4.3.2 单晶培养 | 第89页 |
| 4.3.3 实验主要仪器 | 第89-90页 |
| 4.3.4 分析表征 | 第90页 |
| 4.4 结果与讨论 | 第90-113页 |
| 4.4.1 苯甲酸理想晶习 | 第90-92页 |
| 4.4.2 半定量分析溶剂对晶体生长的影响 | 第92-98页 |
| 4.4.3 定量控制溶剂对晶体生长的影响 | 第98-110页 |
| 4.4.4 溶剂对晶体结构的影响 | 第110-113页 |
| 4.5 本章小结 | 第113-115页 |
| 第五章 有机层状晶体生长机制研究 | 第115-143页 |
| 5.1 引言 | 第115-116页 |
| 5.2 实验部分 | 第116-119页 |
| 5.2.1 实验原料 | 第117页 |
| 5.2.2 实验主要仪器 | 第117页 |
| 5.2.3 溶解度测定 | 第117页 |
| 5.2.4 样品制备 | 第117-118页 |
| 5.2.5 分析表征 | 第118-119页 |
| 5.3 模拟计算 | 第119-121页 |
| 5.3.1 晶习预测 | 第119-120页 |
| 5.3.2 附着能计算 | 第120-121页 |
| 5.3.3 理论XRD结构计算 | 第121页 |
| 5.4 结果与讨论 | 第121-141页 |
| 5.4.1 地红霉素原料药 | 第121-124页 |
| 5.4.2 地红霉素前驱体 | 第124页 |
| 5.4.3 地红霉素层状晶体 | 第124-129页 |
| 5.4.4 地红霉素单晶 | 第129-131页 |
| 5.4.5 分子模拟形貌预测研究 | 第131-136页 |
| 5.4.6 分子模拟定向附着研究 | 第136-139页 |
| 5.4.7 地红霉素层状晶体生长机制 | 第139-141页 |
| 5.5 本章小结 | 第141-143页 |
| 第六章 结论 | 第143-147页 |
| 参考文献 | 第147-159页 |
| 致谢 | 第159-161页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第161-163页 |
| 作者及导师简介 | 第163-165页 |
| 附件 | 第165-166页 |
