摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
1 绪论 | 第11-26页 |
1.1 多孔硅制备方法概述 | 第12-15页 |
1.1.1 化学腐蚀法 | 第12页 |
1.1.2 水热腐蚀法 | 第12-13页 |
1.1.3 电化学阳极腐蚀法 | 第13-14页 |
1.1.4 火花放电刻蚀法 | 第14页 |
1.1.5 金属辅助刻蚀法 | 第14页 |
1.1.6 光化学腐蚀法 | 第14-15页 |
1.2 多孔硅形成机理 | 第15-17页 |
1.2.1 Beale耗尽模型 | 第15-16页 |
1.2.2 载流子扩散限制模型 | 第16页 |
1.2.3 量子限制模型 | 第16-17页 |
1.3 多孔硅发光机理 | 第17-19页 |
1.3.1 量子限制模型 | 第17-18页 |
1.3.2 表面态模型 | 第18页 |
1.3.3 氢化非晶硅发光 | 第18页 |
1.3.4 缺陷态发光模型 | 第18页 |
1.3.5 硅氧烯发光模型 | 第18-19页 |
1.3.6 硅-氢键发光模型 | 第19页 |
1.4 多孔硅的稳定化处理 | 第19-20页 |
1.4.1 表面氧化处理 | 第19-20页 |
1.4.2 金属钝化处理 | 第20页 |
1.4.3 氮钝化处理 | 第20页 |
1.5 多孔硅的表面修饰 | 第20-22页 |
1.5.1 多孔硅表面纳米金属修饰 | 第21页 |
1.5.2 多孔硅表面有机功能基团修饰 | 第21-22页 |
1.6 多孔硅在环境与生物分析中的应用 | 第22-25页 |
1.6.1 PS在重金属离子污染上的检测应用 | 第22-23页 |
1.6.2 检测气体分子 | 第23-24页 |
1.6.3 生物分子的检测 | 第24-25页 |
1.7 本论文的立意及主要工作 | 第25-26页 |
2 化学腐蚀法制备荧光多孔硅对Ag~+的检测 | 第26-39页 |
2.1 引言 | 第26页 |
2.2 实验部分 | 第26-27页 |
2.2.1 实验设备与材料试剂 | 第26页 |
2.2.2 PS样品的制备 | 第26-27页 |
2.2.3 银离子的检测 | 第27页 |
2.2.4 实际水样中银离子的检测 | 第27页 |
2.3 结果与讨论 | 第27-38页 |
2.3.1 多孔硅的制备和表征 | 第27-31页 |
2.3.2 光致发光PS对Ag~+的响应 | 第31-32页 |
2.3.3 实验条件的优化 | 第32-34页 |
2.3.4 Ag~+的检测 | 第34-35页 |
2.3.5 选择性考察 | 第35-36页 |
2.3.6 Ag~+猝灭多孔硅机理探究 | 第36-37页 |
2.3.7 实际样品的考察 | 第37-38页 |
2.4 结论 | 第38-39页 |
3. 电化学阳极腐蚀法制备荧光多孔硅对苦味酸的检测 | 第39-52页 |
3.1 引言 | 第39页 |
3.2 实验部分 | 第39-40页 |
3.2.1 主要仪器及试剂 | 第39页 |
3.2.2 多孔硅的制备 | 第39-40页 |
3.2.3 苦味酸的检测 | 第40页 |
3.3 结果与讨论 | 第40-51页 |
3.3.1 多孔硅的制备和表征 | 第40-44页 |
3.3.2 多孔硅对苦味酸的荧光响应 | 第44-45页 |
3.3.3 优化条件的考察 | 第45-48页 |
3.3.4 灵敏度考察 | 第48-49页 |
3.3.5 选择性考察 | 第49-50页 |
3.3.6 实际样品的分析 | 第50-51页 |
3.4 结论 | 第51-52页 |
4. 氨基功能化多孔硅化学传感器对Fe~(3+)的检测研究 | 第52-64页 |
4.1 引言 | 第52页 |
4.2 实验部分 | 第52-53页 |
4.2.1 主要仪器与实际 | 第52-53页 |
4.2.2 PS样品的制备 | 第53页 |
4.2.3 氨基功能化多孔硅(PS-NH_2)的制备 | 第53页 |
4.2.4 氨基功能化多孔硅的表征 | 第53页 |
4.2.5 铁离子的检测 | 第53页 |
4.2.6 实际样品检测效果考察 | 第53页 |
4.3 结果与讨论 | 第53-62页 |
4.3.1 PS-NH_2的合成与表征 | 第53-56页 |
4.3.2 PS-NH_2对Fe~(3+)的荧光响应 | 第56-57页 |
4.3.3 实验条件的优化 | 第57-60页 |
4.3.4 Fe~(3+)的检测灵敏度 | 第60-61页 |
4.3.5 选择性考察 | 第61-62页 |
4.3.6 实际样品的检测考察 | 第62页 |
4.4 结论 | 第62-64页 |
5 结论与展望 | 第64-66页 |
5.1 全文总结 | 第64页 |
5.2 前景展望 | 第64-66页 |
参考文献 | 第66-76页 |
致谢 | 第76-78页 |
在校期间的科研成果 | 第78页 |