摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第10-22页 |
1.1 引言 | 第10-18页 |
1.1.1 二维层状纳米材料概述 | 第10-11页 |
1.1.2 维层状纳米材料的结构 | 第11-13页 |
1.1.3 维层状纳米材料的制备方法 | 第13-14页 |
1.1.4 维层状纳米材料的层数确定方法 | 第14-16页 |
1.1.5 维层状纳米材料的光电特性及其研究进展 | 第16-18页 |
1.2 太赫兹时域光谱技术的发展与应用 | 第18-19页 |
1.3 椭偏光谱技术的发展与应用 | 第19页 |
1.4 本文的主要研究思路与内容 | 第19-22页 |
第二章 MoS_2晶体在太赫兹与可见光波段的介电响应 | 第22-34页 |
2.1 引言 | 第22-23页 |
2.2 MoS_2晶体在太赫兹波段的介电响应 | 第23-29页 |
2.2.1 MoS_2晶体的太赫兹时域光谱测量 | 第23-24页 |
2.2.2 MoS_2晶体的太赫兹时域光谱傅立叶变换 | 第24-25页 |
2.2.3 MoS_2晶体在太赫兹波段的吸收系数与折射率 | 第25-26页 |
2.2.4 MoS_2晶体在太赫兹波段的介电常数 | 第26-27页 |
2.2.5 MoS_2晶体在太赫兹波段介电常数的模型拟合 | 第27-29页 |
2.3 MoS_2晶体在可见光波段的介电响应 | 第29-33页 |
2.3.1 MoS_2晶体的椭偏参数测量 | 第29-30页 |
2.3.2 MoS_2晶体在可见光波段的介电常数 | 第30-31页 |
2.3.3 MoS_2晶体在可见光波段介电常数的模型拟合 | 第31-32页 |
2.3.4 MoS_2晶体在可见光波段的吸收系数与折射率 | 第32-33页 |
2.4 本章小结 | 第33-34页 |
第三章 二维层状纳米材料MoS_2的制备 | 第34-46页 |
3.1 3M牌Scotch胶带机械剥离块状MoS_2晶体制备单层MoS_2 | 第34-36页 |
3.2 物理气相沉积法制备大面积、高质量单层MoS_2 | 第36-39页 |
3.3 液相剥离法制备MoS_2薄膜 | 第39-44页 |
3.3.1 实验材料与设备 | 第39页 |
3.3.2 实验步骤与细节 | 第39-42页 |
3.3.3 液相剥离法制备MoS_2薄膜的拉曼光谱 | 第42-43页 |
3.3.4 液相剥离法制备MoS_2薄膜的微观形貌 | 第43-44页 |
3.4 本章小结 | 第44-46页 |
第四章 液相剥离法制备的MoS_2薄膜的太赫兹响应 | 第46-54页 |
4.1 MoS_2薄膜的光学照片与微观形貌 | 第46-47页 |
4.2 MoS_2薄膜在可见光波段的吸收率 | 第47-48页 |
4.3 MoS_2薄膜的太赫兹时域光谱 | 第48-50页 |
4.4 MoS_2薄膜的太赫兹相对透过率 | 第50-51页 |
4.5 MoS_2薄膜的太赫兹薄层电导 | 第51-53页 |
4.6 MoS_2薄膜在太赫兹波段的应用 | 第53页 |
4.7 本章小结 | 第53-54页 |
第五章 MoS_2薄膜的光电化学性能 | 第54-62页 |
5.1 引言 | 第54-56页 |
5.1.1 光电化学的发展与应用 | 第54页 |
5.1.2 半导体光电极的光电响应原理 | 第54-55页 |
5.1.3 光电化学实验的三电极测试系统 | 第55-56页 |
5.2 MoS_2薄膜光电化学实验与结果分析 | 第56-61页 |
5.2.1 基于MoS_2薄膜的光电极制备 | 第56-57页 |
5.2.2 MoS_2薄膜的光电化学实验 | 第57-58页 |
5.2.3 MoS_2薄膜光电化学实验的结果分析 | 第58-61页 |
5.3 基于MoS_2薄膜的光电极光电化学性能提高方法 | 第61页 |
5.4 本章小结 | 第61-62页 |
总结与展望 | 第62-66页 |
总结 | 第62-63页 |
展望 | 第63-66页 |
参考文献 | 第66-74页 |
致谢 | 第74-76页 |
攻读硕士学位期间取得的成果与奖励 | 第76页 |