| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 引言 | 第11-13页 |
| 1 绪论 | 第13-25页 |
| ·三阶非线性光学及其材料的研究 | 第13-16页 |
| ·非线性光学的发展 | 第13页 |
| ·三阶非线性光学基础理论 | 第13-14页 |
| ·非线性光学玻璃材料 | 第14-16页 |
| ·硫系玻璃 | 第16-21页 |
| ·硫系玻璃的分类 | 第17页 |
| ·硫系玻璃的制备 | 第17-18页 |
| ·硫系玻璃光学三阶非线性研究 | 第18-21页 |
| ·半导体微晶纳米材料 | 第21-23页 |
| ·半导体量子点的分类[ | 第21-22页 |
| ·微晶化工艺 | 第22页 |
| ·含半导体纳米粒子的硫系玻璃研究进展 | 第22-23页 |
| ·本论文研究的目的、意义及主要内容 | 第23-25页 |
| 2 玻璃析晶参数及非线性理论基础 | 第25-34页 |
| ·析晶动力学理论基础 | 第25-29页 |
| ·热稳定性判据 | 第25页 |
| ·核化和晶化过程 | 第25-27页 |
| ·常见计算析晶动力学参数的方法 | 第27-29页 |
| ·光学带隙 | 第29-30页 |
| ·直接光学带隙和间接光学带隙 | 第29页 |
| ·光学带隙的估算 | 第29-30页 |
| ·Z-scan 理论 | 第30-34页 |
| ·Z-scan 实验 | 第30-31页 |
| ·闭孔Z-scan 曲线 | 第31-32页 |
| ·开孔Z-scan 曲线 | 第32-33页 |
| ·三阶非线性参数的计算方法 | 第33页 |
| ·Z-scan 的修正 | 第33-34页 |
| 3 实验制备和性能测试 | 第34-39页 |
| ·玻璃基质的制备 | 第34-37页 |
| ·实验准备部分 | 第34-35页 |
| ·试剂的称量和配料 | 第35页 |
| ·石英管的真空封接 | 第35页 |
| ·玻璃的熔制 | 第35-36页 |
| ·玻璃的退火 | 第36页 |
| ·样品的抛光 | 第36-37页 |
| ·热处理过程 | 第37页 |
| ·微晶玻璃的组成设计 | 第37页 |
| ·微晶玻璃的热处理工艺 | 第37页 |
| ·性能测试 | 第37-39页 |
| ·密度 | 第37页 |
| ·折射率 | 第37页 |
| ·吸收光谱 | 第37-38页 |
| ·红外透过光谱 | 第38页 |
| ·差热分析 | 第38页 |
| ·XRD 测试 | 第38页 |
| ·SEM 测试 | 第38-39页 |
| 4 GeS_2-Ga_2S_3- CsCl 玻璃及玻璃陶瓷的三阶非线性研究 | 第39-48页 |
| ·引言 | 第39页 |
| ·样品的制备 | 第39页 |
| ·样品的测试 | 第39-40页 |
| ·结果与讨论 | 第40-47页 |
| ·GeS_2-Ga_2S_3-CsCl 玻璃的形成区和热稳定性 | 第40-41页 |
| ·热处理后XRD 与扫描电镜测试结果分析 | 第41-43页 |
| ·玻璃陶瓷样品的折射率和硬度 | 第43-44页 |
| ·玻璃陶瓷的光学特性 | 第44-45页 |
| ·GeS_2-Ga_2S_3-CsCl 玻璃陶瓷的三阶非线性 | 第45-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 5 GeS_2-Ga_2S_3- PbCl_2玻璃的三阶非线性研究 | 第48-56页 |
| ·引言 | 第48-49页 |
| ·样品的制备 | 第49页 |
| ·样品的测试 | 第49页 |
| ·结果与讨论 | 第49-55页 |
| ·折射率和密度 | 第49-50页 |
| ·吸收光谱和光学带隙 | 第50-52页 |
| ·三阶非线性 | 第52-53页 |
| ·拓扑结构分析 | 第53-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 6 GeS_2-Ga_2S_3- PbCl_2玻璃陶瓷的制备和三阶非线性研究 | 第56-67页 |
| ·引言 | 第56页 |
| ·样品的制备 | 第56-57页 |
| ·样品的测试 | 第57页 |
| ·结果与讨论 | 第57-66页 |
| ·热稳定性能和析晶动力学 | 第57-62页 |
| ·晶化处理后样品的物化性能 | 第62-64页 |
| ·热处理后的光学透过性能 | 第64-65页 |
| ·热处理后的三阶非线性研究 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 7 结论 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-75页 |
| 在学研究成果 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76页 |
