| 中文摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 1.绪论 | 第10-15页 |
| ·研究背景及意义 | 第10-11页 |
| ·TCO/金属/TCO多层膜发展过程及特点 | 第11-12页 |
| ·PI薄膜和PI/石墨烯薄膜的特点 | 第12-13页 |
| ·制备方法与内容 | 第13-15页 |
| 2.实验及表征方法 | 第15-24页 |
| ·实验 | 第15-16页 |
| ·实验设备 | 第15-16页 |
| ·实验材料 | 第16页 |
| ·薄膜制备 | 第16页 |
| ·表征方法 | 第16-24页 |
| ·原子力显微镜 | 第16-18页 |
| ·X射线衍射仪 | 第18-20页 |
| ·台阶仪 | 第20-21页 |
| ·紫外-可见分光光度计 | 第21-22页 |
| ·霍尔效应测试仪 | 第22-24页 |
| 3.玻璃、PI和PI/石墨烯基体上制备单层薄膜 | 第24-31页 |
| ·玻璃、PI和PI/石墨烯上制备单层AZO薄膜 | 第24-26页 |
| ·玻璃、PI和PI/石墨烯上单层AZO薄膜的光学性能比较 | 第24-25页 |
| ·玻璃、PI和PI/石墨烯上单层AZO薄膜的电学性能比较 | 第25-26页 |
| ·玻璃、PI和PI/石墨烯上制备单层Ag薄膜 | 第26-30页 |
| ·玻璃、PI和PI/石墨烯上单层Ag薄膜的光学性能比较 | 第27-29页 |
| ·玻璃、PI和PI/石墨烯上单层Ag薄膜的电学性能比较 | 第29-30页 |
| ·小结 | 第30-31页 |
| 4.玻璃基体上制备AZO/Ag/AZO三层薄膜 | 第31-48页 |
| ·玻璃基体上制备的单层膜与三层膜比较 | 第31-35页 |
| ·玻璃基体上单层膜与三层膜表面形貌比较 | 第31-32页 |
| ·玻璃基体上单层膜与三层膜结构比较 | 第32-33页 |
| ·玻璃基体上单层膜与三层膜光学性能比较 | 第33-34页 |
| ·玻璃基体上单层膜与三层膜电学性能比较 | 第34-35页 |
| ·玻璃基体上中间Ag层厚度对三层膜的影响 | 第35-41页 |
| ·玻璃基体上中间Ag层厚度变化对三层膜表面形貌影响 | 第35-36页 |
| ·玻璃基体上中间Ag层厚度变化对三层膜结构影响 | 第36-37页 |
| ·玻璃基体上中间Ag层厚度变化对三层膜光学性能影响 | 第37-38页 |
| ·玻璃基体上中间Ag层厚度变化对三层膜电学性能影响 | 第38-40页 |
| ·玻璃基体上中间Ag层厚度对三层膜影响的综合分析 | 第40-41页 |
| ·玻璃基体上两组不同Ag层厚度的三层膜对比 | 第41-46页 |
| ·玻璃基体上两组不同Ag层厚度三层膜的表面形貌对比 | 第41-42页 |
| ·玻璃基体上两组不同Ag层厚度三层膜的结构变化比较 | 第42-44页 |
| ·玻璃基体上两组不同Ag层厚度三层膜的光学性能对比 | 第44-45页 |
| ·玻璃基体上两组不同Ag层厚度三层膜的电学性能对比 | 第45-46页 |
| ·玻璃基体上制备AZO/Ag/AZO三层薄膜的稳定性 | 第46-47页 |
| ·小结 | 第47-48页 |
| 5.玻璃和PI基体上制备AZO/Ag/AZO薄膜的性能比较 | 第48-53页 |
| ·玻璃和PI基体上三层膜表面形貌比较 | 第48-49页 |
| ·玻璃和PI基体上三层膜结构比较 | 第49-50页 |
| ·玻璃和PI基体上三层膜光学性能比较 | 第50-51页 |
| ·玻璃和PI基体上三层膜电学性能比较 | 第51-52页 |
| ·小结 | 第52-53页 |
| 6. PI/石墨烯/Ag/AZO薄膜的制备 | 第53-56页 |
| 7.结论 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-61页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 作者简介 | 第63-64页 |
