摘要 | 第1-6页 |
abstract | 第6-11页 |
1 绪论 | 第11-29页 |
·研究背景 | 第11-14页 |
·电致变色材料的分类及应用 | 第14-20页 |
·无机电致变色材料 | 第14-16页 |
·有机电致变色材料 | 第16-18页 |
·复合电致变色材料 | 第18-20页 |
·电致变色薄膜的制备工艺 | 第20-24页 |
·物理气相沉积(PVD) | 第20-22页 |
·化学气相沉积(CVD) | 第22页 |
·溶液法沉积 | 第22-24页 |
·V_2O_5基电致变色材料 | 第24-27页 |
·V_2O_5材料的研究背景 | 第24-26页 |
·V_2O_5基电致变色材料的改性研究 | 第26-27页 |
·本论文的研究目的、意义及内容 | 第27-29页 |
·本论文研究意义及目的 | 第27页 |
·本论文研究的主要内容 | 第27-29页 |
2 V_2O_5薄膜及Mo掺杂V_2O_5薄膜的制备方法及表征技术 | 第29-39页 |
·实验仪器及试剂 | 第29-30页 |
·薄膜制备装置及热处理装置 | 第30-32页 |
·直流电源 | 第30-31页 |
·热处理装置 | 第31-32页 |
·V_2O_5薄膜及Mo掺杂V_2O_5薄膜的结构、形貌表征技术 | 第32-36页 |
·X射线衍射仪(X-Ray Diffractometer) | 第32-33页 |
·显微共聚焦Raman光谱仪(Renishaw in Via Raman) | 第33-34页 |
·透射电子显微镜(Transmission Electron Microscope,TEM) | 第34-35页 |
·原子力显微镜(Atomic Force Microscopy,AFM) | 第35-36页 |
·V_2O_5薄膜及Mo掺杂V_2O_5薄膜的电学性能表征技术 | 第36-38页 |
·电化学工作站 | 第36-38页 |
·紫外/可见/近红外分光光度计(UV/Vis/NIR Spectrometer) | 第38页 |
·本章小结 | 第38-39页 |
3 V_2O_5薄膜的制备及结构、电学性能分析 | 第39-49页 |
·V_2O_5薄膜的制备 | 第39-42页 |
·V_2O_5溶胶前驱体的制备 | 第39-40页 |
·V_2O_5薄膜的制备 | 第40-42页 |
·V_2O_5薄膜的结构表征及分析 | 第42-44页 |
·V_2O_5薄膜的X-射线衍射(XRD)分析 | 第42-43页 |
·V_2O_5薄膜的拉曼(Raman)光谱分析 | 第43-44页 |
·V_2O_5薄膜的电学性能表征及分析 | 第44-47页 |
·V_2O_5薄膜的循环伏安特性 | 第44-46页 |
·V_2O_5薄膜的多电位阶跃分析 | 第46-47页 |
·本章小结 | 第47-49页 |
4 Mo掺杂V_2O_5薄膜的制备及其结构、电学、变色性能表征 | 第49-61页 |
·Mo掺杂V_2O_5薄膜的制备 | 第49-50页 |
·Mo源前驱体的制备 | 第49-50页 |
·Mo掺杂V_2O_5复合溶胶的制备 | 第50页 |
·Mo掺杂V_2O_5薄膜的制备 | 第50页 |
·Mo掺杂V_2O_5薄膜的结构与形貌分析 | 第50-56页 |
·Mo掺杂V_2O_5薄膜的X-射线衍射(XRD)及晶体结构分析 | 第50-52页 |
·Mo掺杂V_2O_5薄膜的拉曼(Raman)光谱分析 | 第52-54页 |
·Mo掺杂V_2O_5薄膜的形貌分析 | 第54-56页 |
·Mo掺杂V_2O_5薄膜的电学与变色性能分析 | 第56-60页 |
·Mo掺杂V_2O_5薄膜的循环伏安特性 | 第56-57页 |
·Mo掺杂V_2O_5薄膜的多电位阶跃分析 | 第57-58页 |
·Mo掺杂V_2O_5薄膜的电致变色性能分析 | 第58-60页 |
·本章小结 | 第60-61页 |
5 退火对Mo掺杂V_2O_5薄膜的结构及变色性能的影响 | 第61-69页 |
·退火对Mo掺杂V_2O_5薄膜的结构影响 | 第62-64页 |
·退火对Mo掺杂V_2O_5薄膜电学性能的影响 | 第64-65页 |
·退火对Mo掺杂V_2O_5薄膜电致变色性能的影响 | 第65-66页 |
·Mo掺杂V_2O_5薄膜电致变色的机理分析 | 第66-68页 |
·本章小结 | 第68-69页 |
6 研究结论 | 第69-71页 |
参考文献 | 第71-79页 |
攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第79-80页 |
致谢 | 第80-81页 |