| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-19页 |
| ·前言 | 第11-12页 |
| ·薄膜材料 | 第11页 |
| ·Zn_3N_2薄膜研究背景 | 第11-12页 |
| ·Zn_3N_2薄膜晶格结构 | 第12-13页 |
| ·Zn_3N_2薄膜的主要性质及应用 | 第13-14页 |
| ·光学性质 | 第13-14页 |
| ·热氧化特性 | 第14页 |
| ·电学性质 | 第14页 |
| ·本论文最主要研究内容 | 第14-16页 |
| 参考文献 | 第16-19页 |
| 第2章 Zn_3N_2薄膜的制备工艺 | 第19-25页 |
| ·有机化学气相沉积法(MOCVD) | 第19页 |
| ·分子束外延法(MBE) | 第19页 |
| ·脉冲激光沉积法(PLD) | 第19-20页 |
| ·磁控溅射法(Magnetron Sputtering) | 第20-24页 |
| ·磁控溅射工作原理 | 第20-21页 |
| ·磁控溅射法的优点 | 第21页 |
| ·磁控溅射系统 | 第21-23页 |
| ·Zn_3N_2溅射靶材 | 第23页 |
| ·反应磁控溅射法 | 第23-24页 |
| 参考文献 | 第24-25页 |
| 第3章 Zn_3N_2薄膜的表征手段 | 第25-37页 |
| ·X射线衍射分析技术(XRD) | 第25-27页 |
| ·X射线衍射原理 | 第25页 |
| ·X射线衍射的应用 | 第25-26页 |
| ·X射线衍射分析方法 | 第26-27页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第27-29页 |
| ·SEM工作原理 | 第27-28页 |
| ·SEM系统构成 | 第28页 |
| ·具体应用 | 第28-29页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第29-30页 |
| ·AFM工作原理 | 第29-30页 |
| ·AFM特点 | 第30页 |
| ·棱镜耦合法 | 第30-33页 |
| ·棱镜耦合法原理 | 第30-33页 |
| ·棱镜耦合仪的主要特点 | 第33页 |
| ·透射光谱 | 第33-36页 |
| ·透射光谱原理 | 第34-35页 |
| ·透射光谱主要特点 | 第35-36页 |
| 参考文献 | 第36-37页 |
| 第4章 制备工艺对Zn_3N_2薄膜的影响 | 第37-58页 |
| ·Zn_3N_2薄膜的制备 | 第37页 |
| ·Zn_3N_2薄膜的检测 | 第37页 |
| ·基底类型对Zn_3N_2薄膜的影响 | 第37-41页 |
| ·实验过程 | 第37-38页 |
| ·Zn_3N_2薄膜结构分析 | 第38-40页 |
| ·小结 | 第40-41页 |
| ·溅射功率对Zn_3N_2薄膜的影响 | 第41-47页 |
| ·实验过程 | 第41页 |
| ·XRD分析薄膜的结构特征 | 第41-43页 |
| ·棱镜耦合分析薄膜光波导特性 | 第43-46页 |
| ·小结 | 第46-47页 |
| ·N_2-Ar流量比对Zn_3N_2薄膜的影响 | 第47-50页 |
| ·实验过程 | 第47页 |
| ·XRD分析薄膜的结构特征 | 第47-48页 |
| ·透射光谱分析薄膜的光学特性 | 第48-49页 |
| ·小结 | 第49-50页 |
| ·基底温度对Zn_3N_2薄膜的影响 | 第50-56页 |
| ·实验过程 | 第50页 |
| ·XRD分析薄膜的结构特征 | 第50-51页 |
| ·AFM与SEM分析薄膜的表面形貌 | 第51-53页 |
| ·棱镜耦合分析薄膜光波导特性 | 第53-55页 |
| ·小结 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-58页 |
| 第5章 总结与展望 | 第58-61页 |
| ·主要成果 | 第58-59页 |
| ·主要创新点 | 第59页 |
| ·展望 | 第59-61页 |
| 后记 | 第61-62页 |
| 攻读硕士学位期间论文发表及科研情况 | 第62页 |