| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-30页 |
| ·前言 | 第10-11页 |
| ·光催化技术概述 | 第11-18页 |
| ·半导体光催化的发展史 | 第11-12页 |
| ·光催化的基本原理 | 第12-13页 |
| ·半导体光解水 | 第13-18页 |
| ·金属硫化物光催化剂的研究现状 | 第18-22页 |
| ·金属硫化物光催化剂的结构和特点 | 第18-19页 |
| ·金属硫化物半导体光催化剂 | 第19-22页 |
| ·助催化剂在光催化产氢中的研究现状 | 第22-28页 |
| ·助催化剂概述 | 第22-23页 |
| ·助催化剂在光解水中的作用 | 第23页 |
| ·影响助催化剂性能的因素 | 第23-24页 |
| ·助催化剂的种类 | 第24-28页 |
| ·贵金属助催化剂 | 第24-25页 |
| ·过渡金属助催化剂 | 第25-26页 |
| ·过渡金属氧化物助催化剂 | 第26页 |
| ·过渡金属硫化物助催化剂 | 第26-28页 |
| ·选题依据及研究内容 | 第28-30页 |
| 第二章 实验部分 | 第30-38页 |
| ·主要实验药品及仪器 | 第30-31页 |
| ·主要实验药品 | 第30-31页 |
| ·主要实验仪器 | 第31页 |
| ·实验内容 | 第31-33页 |
| ·ZnIn_2S_4的制备 | 第31-32页 |
| ·四硫代钼酸铵[(NH_4)_2MoS_4]的制备 | 第32页 |
| ·NiS/ZnIn_2S_4复合催化剂材料的制备 | 第32页 |
| ·MoS_2/ZnIn_2S_4复合光催化剂材料的制备 | 第32-33页 |
| ·催化剂的表征 | 第33-35页 |
| ·晶相结构 | 第33页 |
| ·比表面积(BET)测定 | 第33-34页 |
| ·扫描电镜(SEM)分析 | 第34页 |
| ·透射电镜(TEM)分析 | 第34页 |
| ·紫外-可见漫反射(UV-Vis-DRS)分析 | 第34页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第34-35页 |
| ·催化剂体系的性能评价 | 第35-38页 |
| ·实验对象的选择 | 第35-36页 |
| ·实验装置 | 第36页 |
| ·实验方法 | 第36-38页 |
| 第三章 NiS/ZnIn_2S_4复合光催化剂的制备及其光催化性能的研究 | 第38-49页 |
| ·引言 | 第38-39页 |
| ·催化剂的表征和活性评价 | 第39页 |
| ·催化剂的表征 | 第39页 |
| ·光催化活性 | 第39页 |
| ·结果和讨论 | 第39-47页 |
| ·NiS/ZnIn_2S_4光催化剂的表征 | 第39-43页 |
| ·NiS/ZnIn_2S_4光催化剂的性能评价 | 第43-47页 |
| ·NiS/ZnIn_2S_4光催化剂产氢机理 | 第47页 |
| ·小结 | 第47-49页 |
| 第四章 MoS_2/ZnIn_2S_4复合光催化剂的制备及其光催化性能的研究 | 第49-63页 |
| ·引言 | 第49-50页 |
| ·催化剂的表征和活性评价 | 第50-51页 |
| ·催化剂的表征 | 第50-51页 |
| ·催化剂活性 | 第51页 |
| ·结果和讨论 | 第51-61页 |
| ·MoS_2/ZnIn_2S_4光催化剂的表征 | 第51-56页 |
| ·MoS_2/ZnIn_2S_4光催化剂的性能评价 | 第56-60页 |
| ·MoS_2/ZnIn_2S_4光催化剂的产氢机理 | 第60-61页 |
| ·小结 | 第61-63页 |
| 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 个人简历 | 第74-75页 |
| 在学期间发表的论文和科研成果 | 第75页 |
