| 中文摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-28页 |
| ·光催化技术概述 | 第9-10页 |
| ·光催化研究背景 | 第9页 |
| ·光催化原理 | 第9-10页 |
| ·钼钨金属氧化物 | 第10-19页 |
| ·钨酸铋 | 第11-15页 |
| ·钼酸铋 | 第15-19页 |
| ·石墨烯 | 第19-21页 |
| ·光催化剂改性技术 | 第21-25页 |
| ·金属离子掺杂 | 第21页 |
| ·非金属元素掺杂 | 第21-22页 |
| ·多种元素共掺杂 | 第22-23页 |
| ·半导体复合 | 第23-24页 |
| ·多元复合 | 第24-25页 |
| ·立题依据与实验构想 | 第25-28页 |
| 第二章 实验部分 | 第28-35页 |
| ·主要实验药品及仪器 | 第28-29页 |
| ·主要实验药品 | 第28页 |
| ·主要实验仪器 | 第28-29页 |
| ·实验内容 | 第29-35页 |
| ·催化剂的制备 | 第29-31页 |
| ·石墨烯的制备 | 第29-30页 |
| ·氮化碳的制备 | 第30页 |
| ·石墨烯/钼钨金属氧化物二元复合光催化剂的制备 | 第30页 |
| ·金/石墨烯/钼钨金属氧化物三元复合光催化剂的制备 | 第30-31页 |
| ·氮化碳/石墨烯/钨酸铋三元复合光催化剂的制备 | 第31页 |
| ·催化剂的物理表征 | 第31-34页 |
| ·X射线衍射分析(XRD) | 第31-32页 |
| ·紫外可见漫反射吸收光谱(DRS) | 第32-33页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第33页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第33页 |
| ·比表面积测定(BET) | 第33-34页 |
| ·电化学检测 | 第34页 |
| ·可见光光催化活性评价 | 第34-35页 |
| 第三章 基于石墨烯/钨酸铋的三元复合光催化剂的制备与性能研究 | 第35-58页 |
| ·引言 | 第35-36页 |
| ·Au/RGO/Bi_2MO_6三元复合光催化剂的制备与性能研究 | 第36-47页 |
| ·可见光光催化性能研究 | 第36-37页 |
| ·晶体结构 | 第37-39页 |
| ·形貌分析 | 第39页 |
| ·XPS分析 | 第39-41页 |
| ·光吸收性能 | 第41-42页 |
| ·比表面积分析 | 第42-43页 |
| ·光电化学测试 | 第43-44页 |
| ·机理研究 | 第44-47页 |
| ·Au/RGO/Bi_2MO_6三元复合光催化剂的合成机理 | 第44-45页 |
| ·Au/RGO/Bi_2MO_6三元复合光催化剂光催化机理 | 第45-47页 |
| ·C_3N_4/RGO/Bi_2MO_6的制备与性能研究 | 第47-57页 |
| ·可见光光催化性能研究 | 第47页 |
| ·晶体结构 | 第47-49页 |
| ·形貌分析 | 第49-50页 |
| ·XPS分析 | 第50-51页 |
| ·光吸收性能 | 第51-52页 |
| ·比表面积分析 | 第52-53页 |
| ·机理研究 | 第53-57页 |
| ·C_3N_4/RGO/Bi_2MO_6三元复合光催化剂的合成机理 | 第53-54页 |
| ·C_3N_4/RGO/Bi_2MO_6三元复合光催化剂光催化机理 | 第54-57页 |
| ·小结 | 第57-58页 |
| 第四章 金/石墨烯/铝酸铋三元复合光催化剂的制备与性能研究 | 第58-71页 |
| ·引言 | 第58-59页 |
| ·结果与讨论 | 第59-69页 |
| ·光催化性能研究 | 第59-60页 |
| ·晶体结构 | 第60-61页 |
| ·形貌分析 | 第61-62页 |
| ·XPS谱图分析 | 第62-64页 |
| ·光吸收性能 | 第64-65页 |
| ·光电化学测试 | 第65-66页 |
| ·比表面积分析 | 第66-67页 |
| ·机理研究 | 第67-69页 |
| ·Au/RGO/Bi_2MoO_6三元复合光催化剂的合成机理 | 第67页 |
| ·Au/RGO/Bi_2MoO_6三元复合光催化剂光催化机理 | 第67-69页 |
| ·小结 | 第69-71页 |
| 结论与展望 | 第71-73页 |
| 一、结论 | 第71-72页 |
| 二、展望 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-85页 |
| 致谢 | 第85-86页 |
| 个人简历 | 第86页 |
| 已发表文章目录 | 第86页 |
