| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 文献综述 | 第10-37页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·分子筛的分类以及结构特点 | 第10-14页 |
| ·分子筛的分类 | 第10-11页 |
| ·分子筛的结构特点与性质 | 第11-14页 |
| ·模板剂的作用和种类 | 第14-19页 |
| ·微孔分子筛晶化的结构导向与模板剂 | 第14-18页 |
| ·介孔分子筛的模板剂 | 第18-19页 |
| ·有序大孔材料的模板剂 | 第19页 |
| ·模板剂脱除方法 | 第19-22页 |
| ·等离子体技术在分子筛催化中的应用 | 第22-32页 |
| ·等离子体简介 | 第22-24页 |
| ·等离子体技术在分子筛及分子筛催化剂制备上的应用 | 第24-27页 |
| ·等离子体技术在脱除分子筛模板剂的早期探索 | 第27页 |
| ·等离子体技术在分子筛再生方面的应用 | 第27-28页 |
| ·等离子体技术在分子筛催化方面的应用 | 第28-32页 |
| ·介质阻挡放电概述 | 第32-35页 |
| ·介质阻挡放电概述 | 第32-34页 |
| ·介质阻挡放电应用 | 第34-35页 |
| ·研究工作的提出及研究内容 | 第35-37页 |
| 第二章 实验方法与实验装置 | 第37-46页 |
| ·采用的分子筛和相关模板剂 | 第37页 |
| ·气体 | 第37-38页 |
| ·DBD 等离子体装置与流程 | 第38-40页 |
| ·热焙烧方法脱除分子筛模板剂 | 第40-41页 |
| ·样品的表征 | 第41-43页 |
| ·小角X 射线衍射（XRD） | 第41页 |
| ·X 射线衍射 | 第41页 |
| ·红外光谱分析（FT-IR） | 第41-42页 |
| ·物理吸附脱附分析 | 第42页 |
| ·透射电子显微镜分析（TEM） | 第42页 |
| ·热重分析（TGA） | 第42页 |
| ·X 射线光电子能谱分析（XPS） | 第42-43页 |
| ·正己烷探针分子吸附测定 | 第43页 |
| ·质谱分析 | 第43页 |
| ·介质阻挡放电过程参数测定 | 第43页 |
| ·斑图的获得 | 第43页 |
| ·总结 | 第43-46页 |
| 第三章 介质阻挡放电等离子体脱除分子筛模板剂实验观察 | 第46-55页 |
| ·分子筛存在下DBD 电流、电压特性 | 第47-48页 |
| ·DBD 脱除分子筛模板剂随时间变化过程观察 | 第48-50页 |
| ·DBD 脱除分子筛模板剂斑图观察 | 第50-54页 |
| ·小结 | 第54-55页 |
| 第四章 介质阻挡放电方法脱除MCM-41 分子筛模板剂过程分析 | 第55-62页 |
| ·实验结果与讨论 | 第55-61页 |
| ·小结 | 第61-62页 |
| 第五章 介质阻挡放电方法脱除ZSM-5 分子筛模板剂过程分析 | 第62-68页 |
| ·实验结果与讨论 | 第62-67页 |
| ·小结 | 第67-68页 |
| 第六章 介质阻挡放电方法脱除Hβ分子筛模板剂过程的分析 | 第68-73页 |
| ·实验结果与讨论 | 第68-72页 |
| ·小结 | 第72-73页 |
| 第七章 等离子体法脱除模板剂的机理研究 | 第73-85页 |
| ·引言 | 第73-74页 |
| ·介质阻挡放电等离子体放电过程的结果与讨论 | 第74-84页 |
| ·氧化作用 | 第74-82页 |
| ·微放电 | 第82-84页 |
| ·小结 | 第84-85页 |
| 第八章 介质阻挡放电法制备分子筛催化性能评价 | 第85-92页 |
| ·Pd/MCM-41 催化剂的制备及其反应评价 | 第85-86页 |
| ·Pd/MCM-41 催化剂的制备 | 第85页 |
| ·Pd/MCM-41 催化剂在Suzuki 反应中的评价 | 第85-86页 |
| ·实验结果与讨论 | 第86页 |
| ·PdO/HZSM-5 催化剂的制备及其反应评价 | 第86-91页 |
| ·PdO/HZSM-5 催化剂的制备 | 第86-87页 |
| ·甲烷催化燃烧反应及活性评价 | 第87-89页 |
| ·结果与讨论 | 第89-91页 |
| ·小结 | 第91-92页 |
| 第九章 结论 | 第92-94页 |
| ·结论 | 第92-93页 |
| ·创新点 | 第93-94页 |
| 参考文献 | 第94-108页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第108-110页 |
| 致谢 | 第110页 |
