摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-8页 |
目录 | 第8-10页 |
第一章 绪论 | 第10-55页 |
·光催化概述 | 第10-14页 |
·半导体光催化的研究进展 | 第10-11页 |
·半导体光催化基本原理 | 第11-12页 |
·光催化技术在环境中的应用 | 第12-14页 |
·空气净化 | 第12-13页 |
·水质净化 | 第13页 |
·自洁净作用 | 第13-14页 |
·TiO_2的改性 | 第14-35页 |
·贵金属沉积 | 第14-16页 |
·元素掺杂 | 第16-24页 |
·半导体异质结构 | 第24-27页 |
·价带修饰 | 第27-30页 |
·导带修饰 | 第30-31页 |
·掺杂多金属氧酸盐 | 第31-35页 |
·石墨相氮化碳 | 第35-48页 |
·氮化碳的研究历史 | 第35页 |
·石墨相氮化碳的性质 | 第35-37页 |
·热稳定性 | 第35-36页 |
·化学稳定性 | 第36页 |
·光学和光电化学性质 | 第36-37页 |
·石墨相氮化碳的应用 | 第37-48页 |
·光催化分解水 | 第37-41页 |
·氧化反应 | 第41-45页 |
·光降解污染物 | 第45-46页 |
·加氢反应 | 第46-47页 |
·碱性催化剂 | 第47-48页 |
·一氧化氮的分解 | 第48页 |
·光催化反应器 | 第48-53页 |
·悬浮型光催化反应器 | 第48-49页 |
·固定型光催化反应器 | 第49-51页 |
·光纤光催化反应器 | 第51-53页 |
·论文选题目的及意义 | 第53-55页 |
第二章 H_3PW_(12)O_(40)/TiO_2和Ag/H_3PW_(12)O_(40)/TiO_2薄膜光纤反应器的设计及其模拟太阳光光催化性能研究 | 第55-75页 |
·前言 | 第55-56页 |
·实验部分 | 第56-60页 |
·试剂和仪器 | 第56-57页 |
·催化剂的制备及涂覆 | 第57-58页 |
·光催化反应装置 | 第58-59页 |
·光催化实验过程 | 第59-60页 |
·结果和讨论 | 第60-74页 |
·催化剂的制备及表征 | 第60-66页 |
·组成与结构信息 | 第61-63页 |
·形貌和孔结构 | 第63-65页 |
·光吸收性质 | 第65-66页 |
·光催化性能 | 第66-74页 |
·光纤水平放置光催化实验 | 第66-69页 |
·催化剂薄膜的稳定性 | 第69-70页 |
·光纤垂直放置光催化实验 | 第70-72页 |
·催化剂薄膜厚度的影响 | 第72-73页 |
·太阳能模拟器强度的影响 | 第73-74页 |
·小结 | 第74-75页 |
第三章 g-C_3N_4/Bi_5Nb_3O_(15)复合材料的设计制备及其光催化性能研究 | 第75-92页 |
·前言 | 第75-76页 |
·实验部分 | 第76-79页 |
·试剂和仪器 | 第76-77页 |
·催化剂的制备 | 第77-78页 |
·g-C_3N_4/Ti、Bi_5Nb_3O_(15)/Ti 和 g-C_3N_4/Bi_5Nb_3O_(15)/Ti 电极的制备 | 第78页 |
·光电化学实验 | 第78-79页 |
·光催化实验过程 | 第79页 |
·结果和讨论 | 第79-91页 |
·催化剂的表征 | 第79-84页 |
·物相组成与化学结构 | 第79-80页 |
·形貌微观结构分析 | 第80-82页 |
·光学性质 | 第82-83页 |
·光电化学性质 | 第83-84页 |
·光催化性能 | 第84-91页 |
·可见光催化活性 | 第84-86页 |
·光催化机理 | 第86-90页 |
·催化剂的稳定性 | 第90-91页 |
·小结 | 第91-92页 |
结论 | 第92-94页 |
参考文献 | 第94-108页 |
致谢 | 第108-109页 |
在学期间公开发表论文及著作情况 | 第109-110页 |