首页--工业技术论文--机械、仪表工业论文--仪器、仪表论文--光学仪器论文--显微镜论文

共聚焦激光扫描光学显微成像关键技术研究

摘要第1-7页
Abstract第7-9页
目录第9-13页
第1章 绪论第13-23页
   ·引言第13-15页
   ·共聚焦激光扫描光学显微成像第15-16页
   ·研究现状第16-18页
   ·研究目的和意义第18-19页
   ·研究内容第19-23页
第2章 共聚焦激光扫描成像点扩散函数第23-49页
   ·照明点扩散函数第23-39页
     ·数值孔径的影响第29-30页
     ·入射光偏振的影响第30-32页
     ·光束类型的影响第32-34页
     ·多层介质第34-39页
   ·探测点扩散函数第39-43页
   ·共聚焦点扩散函数第43-47页
   ·本章小结第47-49页
第3章 基于扫描振镜的扫描成像技术第49-79页
   ·扫描成像光路第49-54页
     ·扫描成像原理第49-50页
     ·远心光路第50-52页
     ·扫描振镜布局第52-54页
   ·扫描振镜控制第54-65页
     ·扫描振镜第54-59页
     ·控制原理第59-61页
     ·控制系统的硬件实现第61-65页
   ·采样与分辨率第65-68页
   ·扫描校正第68-76页
     ·扫描透镜校正第70-72页
     ·振镜反正切控制校正第72-74页
     ·扫描校正分析第74-76页
   ·本章小结第76-79页
第4章 共聚焦多光谱成像技术第79-99页
   ·多波长激光激发第79-88页
     ·激光合束第80-82页
     ·激光选通第82-86页
     ·合束选通实现结果第86-88页
   ·多光谱荧光探测第88-96页
     ·棱镜分光和光栅分光第89-92页
     ·分光机构布局第92-94页
     ·分光结果第94-96页
   ·本章小结第96-99页
第5章 基于共聚焦激光扫描的受激辐射损耗技术第99-117页
   ·可逆饱和光转移第99-102页
     ·RESOLFT 饱和过程第100-101页
     ·RESOLFT 分布控制第101-102页
     ·RESOLFT 概念的超分辨技术第102页
   ·受激辐射损耗第102-111页
     ·STED 饱和损耗过程第103-107页
     ·STED 中空光束形成第107-111页
   ·有效荧光的 PSF 及其调制优化第111-115页
     ·有效荧光的 PSF第111-112页
     ·损耗光调制第112-114页
     ·PSF 的调制优化结果第114-115页
   ·本章小结第115-117页
第6章 成像系统搭建、实验与分析第117-135页
   ·成像系统第117-121页
     ·系统的原理和构成第117-118页
     ·搭建和调节第118-120页
     ·软件界面第120-121页
   ·成像实验第121-130页
     ·共聚焦成像实验第121-124页
     ·扫描控制实验第124-127页
     ·多光谱成像实验第127-129页
     ·空心损耗光形成实验第129-130页
   ·成像分析第130-132页
   ·本章小结第132-135页
第7章 总结和展望第135-139页
   ·总结第135-137页
   ·展望第137-139页
参考文献第139-151页
在学期间学术成果情况第151-153页
指导教师及作者简介第153-155页
致谢第155页

论文共155页,点击 下载论文
上一篇:傅里叶望远镜成像关键技术研究
下一篇:空间低温辐射计黑体腔与光电不等效性研究