AR膜的制备及微结构调制的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-18页 |
| ·课题研究背景 | 第9-10页 |
| ·AR 膜的减反射原理 | 第10-12页 |
| ·AR 膜的制备方法 | 第12-15页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第12-13页 |
| ·化学气相沉积法 | 第13页 |
| ·磁控溅射法 | 第13-14页 |
| ·液相沉积法 | 第14-15页 |
| ·AR 膜的应用 | 第15-16页 |
| ·在太阳能领域的应用 | 第15页 |
| ·在高功率激光器上的应用 | 第15-16页 |
| ·在光纤通信领域的应用 | 第16页 |
| ·国内外研究现状 | 第16-17页 |
| ·本论文研究的主要内容 | 第17-18页 |
| 第2章 实验过程及方法 | 第18-29页 |
| ·溶胶-凝胶反应过程 | 第18页 |
| ·疏水改性原理 | 第18-20页 |
| ·实验试剂及设备 | 第20页 |
| ·实验过程及方法 | 第20-22页 |
| ·薄膜的制备 | 第21-22页 |
| ·薄膜的热处理 | 第22页 |
| ·薄膜的疏水处理 | 第22页 |
| ·实验测试方法 | 第22-29页 |
| ·光学性能分析 | 第22-23页 |
| ·X 射线衍射(XRD)分析 | 第23页 |
| ·干凝胶的 DSC-TG 分析 | 第23-24页 |
| ·红外光谱分析 | 第24-25页 |
| ·表面形貌分析 | 第25-26页 |
| ·力学性能分析 | 第26-27页 |
| ·疏水性能分析 | 第27-29页 |
| 第3章 结果与讨论 | 第29-64页 |
| ·SiO_2减反射膜的制备 | 第29-36页 |
| ·溶胶老化时间的影响 | 第29-31页 |
| ·抑制剂的影响 | 第31-32页 |
| ·稀释剂的影响 | 第32-34页 |
| ·旋涂速度和加液量的影响 | 第34-36页 |
| ·SiO_2薄膜的热处理 | 第36-41页 |
| ·SiO_2干凝胶的 DSC-TG 分析 | 第36-37页 |
| ·SiO_2干凝胶的 XRD 分析 | 第37-38页 |
| ·SiO_2干凝胶的 EDS 能谱分析 | 第38-39页 |
| ·SiO_2干凝胶的红外光谱分析 | 第39-41页 |
| ·热处理对 SiO_2薄膜光学性能的影响 | 第41-42页 |
| ·热处理对 SiO_2薄膜表面形貌的影响 | 第42-47页 |
| ·热处理对 SiO_2薄膜力学性能的影响 | 第47-55页 |
| ·薄膜厚度分析 | 第47-49页 |
| ·纳米压痕硬度分析 | 第49-55页 |
| ·SiO_2减反射膜的疏水改性 | 第55-64页 |
| ·疏水改性处理 | 第55-57页 |
| ·固化温度对 SiO_2薄膜疏水性能的影响 | 第57-59页 |
| ·疏水剂比例对 SiO_2薄膜疏水性能的影响 | 第59-62页 |
| ·疏水改性对 SiO_2薄膜光学性能的影响 | 第62-64页 |
| 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 作者简介 | 第71页 |
