Nb-Ti、Ni-Ta和Ag-Ta纳米多层膜力学性能研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第1章 引言 | 第9-19页 |
| ·纳米薄膜材料 | 第9页 |
| ·纳米多层膜简介 | 第9-11页 |
| ·纳米多层膜的力学性能 | 第11-18页 |
| ·研究进展 | 第12-14页 |
| ·主要理论 | 第14-18页 |
| ·本论文的研究思路与内容 | 第18-19页 |
| 第2章 实验方法 | 第19-28页 |
| ·多层膜制备 | 第19-21页 |
| ·基片选择与处理 | 第19页 |
| ·磁控溅射 | 第19-20页 |
| ·电子束蒸发 | 第20-21页 |
| ·多层膜结构分析 | 第21-23页 |
| ·X 射线荧光谱分析 | 第21-22页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第22页 |
| ·俄歇电子探针 | 第22-23页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第23页 |
| ·透射电子显微镜 | 第23页 |
| ·纳米压痕测试 | 第23-26页 |
| ·纳米压痕测量原理 | 第24-25页 |
| ·连续刚度测试 | 第25-26页 |
| ·电学性能测试 | 第26-28页 |
| 第3章 Nb/Ti 多层膜的力学性能 | 第28-45页 |
| ·Nb/Ti 多层膜的设计 | 第28-29页 |
| ·Nb/Ti 多层膜的制备 | 第29页 |
| ·Nb/Ti 多层膜的热处理 | 第29页 |
| ·Nb/Ti 多层膜的测试结果 | 第29-41页 |
| ·薄膜厚度测试与元素成分分析 | 第29-30页 |
| ·小角度 X 射线衍射 | 第30-32页 |
| ·高角度 X 射线衍射 | 第32-35页 |
| ·SEM 形貌观察 | 第35-37页 |
| ·AES 元素分析 | 第37-38页 |
| ·表面电阻率测试 | 第38-39页 |
| ·力学性能测试 | 第39-41页 |
| ·Nb/Ti 多层膜实验结果分析 | 第41-44页 |
| ·制备态 Nb/Ti 多层膜的力学性能分析 | 第41-42页 |
| ·退火态 Nb/Ti 多层膜的力学性能分析 | 第42-44页 |
| ·Nb/Ti 多层膜的热稳定性 | 第44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第4章 Ni/Ta 多层膜的力学性能 | 第45-60页 |
| ·Ni/Ta 多层膜的设计 | 第45页 |
| ·Ni/Ta 多层膜的制备 | 第45-46页 |
| ·Ni/Ta 多层膜的测试结果 | 第46-54页 |
| ·小角度 X 射线衍射 | 第46-47页 |
| ·高角度 X 射线衍射 | 第47-49页 |
| ·TEM 截面形貌观察 | 第49-53页 |
| ·力学性能测试 | 第53-54页 |
| ·Ni/Ta 多层膜实验结果分析 | 第54-59页 |
| ·硬度变化机制 | 第56-58页 |
| ·弹性模量变化机制 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第5章 Ag/Ta 多层膜的力学性能 | 第60-71页 |
| ·Ag/Ta 多层膜的设计 | 第60-61页 |
| ·Ag/Ta 多层膜的制备 | 第61页 |
| ·Ag/Ta 多层膜的测试结果 | 第61-65页 |
| ·小角度 X 射线衍射 | 第61-62页 |
| ·高角度 X 射线衍射 | 第62-63页 |
| ·TEM 截面形貌观察 | 第63-65页 |
| ·力学性能测试 | 第65页 |
| ·Ag/Ta 多层膜实验结果分析 | 第65-69页 |
| ·本章小结 | 第69-71页 |
| 第6章 结论 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-80页 |
| 致谢 | 第80-82页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第82页 |
