摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
1 绪论 | 第9-25页 |
·研究背景 | 第9-10页 |
·多弧离子镀技术 | 第10-14页 |
·多弧离子镀的基本结构与沉积原理 | 第10-12页 |
·多弧离子镀的特点 | 第12页 |
·多弧离子镀的发展及应用 | 第12-13页 |
·多弧离子镀的问题及解决 | 第13-14页 |
·TiN,CrN,TiCrN 薄膜综述 | 第14-19页 |
·TiN 膜 | 第14-17页 |
·CrN 膜 | 第17-18页 |
·TiCrN 膜 | 第18-19页 |
·氮化物硬质涂层的发展 | 第19-23页 |
·二元涂层 | 第19-20页 |
·多组元涂层 | 第20-21页 |
·多层涂层 | 第21-23页 |
·本论文实验设计方案、研究内容及技术路线 | 第23-25页 |
·本论文实验设计方案 | 第23页 |
·本论文研究内容 | 第23-24页 |
·研究技术路线 | 第24-25页 |
2 实验设备及实验方法 | 第25-31页 |
·XH800 型多弧离子镀设备 | 第25-26页 |
·实验材料及基体试样预处理 | 第26-27页 |
·实验材料 | 第26页 |
·基体试样预处理 | 第26-27页 |
·薄膜制备 | 第27-28页 |
·试验流程 | 第27页 |
·试验工艺及参数 | 第27-28页 |
·膜层物相、形貌及元素检测 | 第28-29页 |
·X 射线衍射检测 | 第28页 |
·形貌及元素检测 | 第28-29页 |
·膜层主要性能测试 | 第29-31页 |
·显微硬度测试 | 第29页 |
·膜层结合力测试 | 第29-31页 |
3 TiN 薄膜物相、形貌及主要性能分析 | 第31-42页 |
·TiN 薄膜物相分析 | 第31-35页 |
·TiN 薄膜表面及断口形貌分析 | 第35-38页 |
·TiN 薄膜表面能谱分析 | 第38-39页 |
·TiN 薄膜显微硬度及结合力分析 | 第39-41页 |
·本章小结 | 第41-42页 |
4 CrN 薄膜物相、形貌及主要性能分析 | 第42-58页 |
·CrN 薄膜物相分析 | 第42-46页 |
·CrN 薄膜表面形貌及断口分析 | 第46-49页 |
·CrN 薄膜表面能谱分析 | 第49-51页 |
·CrN 薄膜显微硬度及结合力分析 | 第51-56页 |
·本章小结 | 第56-58页 |
5 TiN/TiCrN/CrN 多元多层复合膜物相、形貌及主要性能分析 | 第58-78页 |
·TiN/TiCrN/CrN 多元多层复合膜物相分析 | 第58-64页 |
·TiN/TiCrN/CrN 多元多层复合膜表面形貌及断口分析 | 第64-68页 |
·TiN/TiCrN/CrN 多元多层复合膜表面成分分析 | 第68-70页 |
·TiN/TiCrN/CrN 多元多层复合膜显微硬度及结合力分析 | 第70-76页 |
·本章小结 | 第76-78页 |
结论 | 第78-79页 |
参考文献 | 第79-84页 |
攻读硕士学位期间发表的论文及科研成果 | 第84-85页 |
致谢 | 第85-86页 |