基于软光刻的多层光互连垂直耦合结构
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-12页 |
| ·光电子技术 | 第8页 |
| ·电子学和光电子学 | 第8-10页 |
| ·光互连技术概论 | 第10-11页 |
| ·本论文的主要研究工作 | 第11-12页 |
| 第二章 光互连技术 | 第12-27页 |
| ·技术背景 | 第12-14页 |
| ·集成电路与光互连 | 第12-13页 |
| ·计算机通信与光互连 | 第13-14页 |
| ·电互连与光互连的比较 | 第14-16页 |
| ·实现光互连的物理依据 | 第16-18页 |
| ·光互连的分类 | 第18-21页 |
| ·自由空间光互连 | 第18-19页 |
| ·波分复用光纤互连 | 第19-20页 |
| ·波导光互连 | 第20-21页 |
| ·光互连技术的发展现状 | 第21-27页 |
| ·光互连计算机体系结构 | 第21-23页 |
| ·光纤通信网络 | 第23-25页 |
| ·光电印制电路板的三个时代 | 第25-27页 |
| 第三章 光互连线路设计 | 第27-37页 |
| ·光互连使用的基本器件 | 第27-32页 |
| ·光发射器件 | 第27-31页 |
| ·光接收器件 | 第31-32页 |
| ·光传输器件 | 第32页 |
| ·已有的垂直耦合光互连方案 | 第32-34页 |
| ·新型垂直耦合光互连线路的设计 | 第34-37页 |
| 第四章 新结构的性能分析和参数优化 | 第37-46页 |
| ·光学设计软件ZEMAX | 第37-40页 |
| ·ZEMAX简介 | 第37-38页 |
| ·ZEMAX光线追迹功能 | 第38-40页 |
| ·利用ZEMAX对结构进行模拟计算和参数优化 | 第40-46页 |
| ·跨越单层的研究 | 第40-42页 |
| ·跨越多层的研究 | 第42-44页 |
| ·模式分布对线路传输损耗的影响 | 第44-46页 |
| 第五章 软光刻法制作垂直耦合光互连线路 | 第46-58页 |
| ·聚合物基三维集成光学制作技术 | 第46页 |
| ·软光刻技术 | 第46-54页 |
| ·技术背景 | 第46-47页 |
| ·工艺流程 | 第47-50页 |
| ·工艺类型 | 第50-54页 |
| ·三维多层垂直耦合光互连结构的实际制作 | 第54-55页 |
| ·器件的性能测试 | 第55-58页 |
| 第六章 总结与展望 | 第58-61页 |
| ·总结 | 第58-59页 |
| ·创新性工作 | 第59页 |
| ·展望 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 硕士在读期间发表论文和专利 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 个人简历 | 第68页 |
