| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·溅射镀膜原理 | 第10-14页 |
| ·溅射现象 | 第10-11页 |
| ·溅射镀膜 | 第11-12页 |
| ·磁控溅射的工作原理 | 第12-14页 |
| ·Ti薄膜的研究背景 | 第14-15页 |
| ·国内外的相关研究工作 | 第15-17页 |
| 第二章 样品制备与测试方法 | 第17-23页 |
| ·样品的制备 | 第17-19页 |
| ·实验设备简介 | 第17页 |
| ·衬底清洗 | 第17-18页 |
| ·实验操作步骤 | 第18-19页 |
| ·样品测试方法 | 第19-23页 |
| ·表面轮廓测试仪 | 第19页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第19页 |
| ·白光干涉仪 | 第19-20页 |
| ·X射线衍射 | 第20页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第20页 |
| ·薄膜弹性模量和硬度的测量 | 第20-21页 |
| ·薄膜成分的测量 | 第21-23页 |
| 第三章 磁控溅射方法制备 Ti薄膜的结构与性能研究 | 第23-44页 |
| ·溅射功率对 Ti薄膜结构及性能的影响 | 第23-28页 |
| ·溅射功率对 Ti薄膜沉积速率的影响 | 第23-24页 |
| ·溅射功率对 Ti薄膜表面形貌的影响 | 第24-26页 |
| ·溅射功率对Ti膜晶型结构及应力的影响 | 第26-28页 |
| ·沉积时间和脱膜剂对 Ti薄膜结构和性能的影响 | 第28-30页 |
| ·沉积时间对Ti薄膜结构的影响 | 第28-29页 |
| ·不同脱膜剂对Ti膜形貌的影响 | 第29-30页 |
| ·不同沉积时间下Ti膜的宏观形貌 | 第30页 |
| ·负偏压对 Ti薄膜结构及性能的影响 | 第30-37页 |
| ·不同偏压下Ti膜的沉积速率 | 第30-31页 |
| ·偏压对Ti膜密度的影响 | 第31-32页 |
| ·负偏压对 Ti薄膜微结构的影响 | 第32-34页 |
| ·负偏压对 Ti薄膜生长方式的影响 | 第34页 |
| ·负偏压对 Ti薄膜表面形貌的影响 | 第34-36页 |
| ·负偏压对 Ti薄膜力学性能的影响 | 第36-37页 |
| ·硼掺杂对Ti薄膜结构与性能的影响 | 第37-44页 |
| ·B 靶溅射功率对掺 B钛薄膜沉积速率的影响 | 第37-38页 |
| ·B 掺杂对 Ti薄膜微结构的影响 | 第38-40页 |
| ·B 掺杂对 Ti薄膜微生长方式的影响 | 第40-41页 |
| ·B 掺杂对薄膜表面形貌的影响 | 第41-44页 |
| 第四章 总结及研究展望 | 第44-46页 |
| ·主要结论 | 第44页 |
| ·本论文的创新点 | 第44-45页 |
| ·工作展望 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-50页 |
| 科研成果简介 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51页 |