磁控溅射WO3和NiOx互补型电致变色薄膜
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 1 绪论 | 第11-35页 |
| ·电致变色材料概述 | 第11-15页 |
| ·电致变色材料发展概述 | 第11-12页 |
| ·电致变色材料的组成 | 第12-14页 |
| ·应用前景及存在问题 | 第14-15页 |
| ·电致变色机理 | 第15-19页 |
| ·电致变色器件 | 第19-24页 |
| ·电致变色器件 | 第19-24页 |
| ·互补型电致变色器及其优势 | 第24页 |
| ·WO_3、NiO_x电致变色薄膜 | 第24-33页 |
| ·WO_3电致变色薄膜 | 第24-26页 |
| ·NiO_x电致变色薄膜 | 第26-27页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第27-33页 |
| ·本论文研究的目的及意义 | 第33-35页 |
| 2 实验设备及分析仪器 | 第35-40页 |
| ·实验设备及试验材料 | 第35-37页 |
| ·薄膜制备设备 | 第35-36页 |
| ·基材及相关试剂 | 第36页 |
| ·电解质的制备 | 第36-37页 |
| ·薄膜分析表征方法 | 第37-40页 |
| ·表面形貌分析 | 第37页 |
| ·成分和结构分析 | 第37-39页 |
| ·透射光谱特性测试 | 第39页 |
| ·电化学性能测试 | 第39-40页 |
| 3 WO_3薄膜制备及性能研究 | 第40-66页 |
| ·WO_3薄膜的制备 | 第40-41页 |
| ·氧气含量对薄膜电致变色性能的影响 | 第41-58页 |
| ·薄膜的透射光谱研究 | 第41-45页 |
| ·薄膜中元素化学状态XPS研究 | 第45-53页 |
| ·薄膜结构分析 | 第53-55页 |
| ·薄膜电化学性能测试 | 第55-58页 |
| ·热处理温度对薄膜结构及性能影响 | 第58-65页 |
| ·热处理后薄膜透射光谱的研究 | 第58-60页 |
| ·热处理后薄膜成分及结构分析 | 第60-63页 |
| ·热处理后薄膜电化学性能测试 | 第63-65页 |
| ·本章小节 | 第65-66页 |
| 4 Ti掺杂WO_3薄膜性能研究 | 第66-81页 |
| ·掺杂的优势 | 第66-67页 |
| ·Ti-WO_3薄膜的制备 | 第67-68页 |
| ·掺杂对薄膜结构和性能的研究 | 第68-80页 |
| ·掺杂薄膜中元素化学状态XPS研究 | 第68-72页 |
| ·掺杂对薄膜结构影响 | 第72-75页 |
| ·掺杂对WO_3薄膜光谱性能影响 | 第75-77页 |
| ·掺杂后薄膜电化学性能研究 | 第77-79页 |
| ·薄膜的循环寿命 | 第79-80页 |
| ·本章小节 | 第80-81页 |
| 5 NiO_x薄膜性能研究 | 第81-97页 |
| ·NiO_x薄膜的制备 | 第81-82页 |
| ·NiO_x薄膜沉积速率测定 | 第82页 |
| ·薄膜的表面形貌及结构 | 第82-84页 |
| ·薄膜的XPS分析 | 第84-87页 |
| ·薄膜的光谱特性 | 第87-89页 |
| ·薄膜电化学性能研究 | 第89-94页 |
| ·热处理温度对薄膜结构及性能影响 | 第94-96页 |
| ·本章小节 | 第96-97页 |
| 6 互补型电致变色器件研究 | 第97-100页 |
| ·电致变色器件 | 第97-99页 |
| ·本章小节 | 第99-100页 |
| 结论 | 第100-102页 |
| 参考文献 | 第102-108页 |
| 攻读博士学位期间发表学术论文情况 | 第108-109页 |
| 致谢 | 第109-110页 |
| 作者简介 | 第110-111页 |
