| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 引言 | 第8-10页 |
| 第一章 文献综述 | 第10-17页 |
| ·交换偏置(exchange bias)的研究进展和应用 | 第10-11页 |
| ·影响交换偏置的因素 | 第11-13页 |
| ·厚度的影响 | 第11-12页 |
| ·反铁磁层磁矩取向 | 第12页 |
| ·界面对交换偏置的影响 | 第12-13页 |
| ·交换偏置机制 | 第13-16页 |
| ·Meiklejohn-Bean(M-B)模型 | 第14-15页 |
| ·平行界面的反铁磁畴壁 | 第15页 |
| ·Malozemoff随机场模型 | 第15页 |
| ·Koon的spin-flop垂直界面耦合模型 | 第15-16页 |
| 参考文献 | 第16-17页 |
| 第二章 样品的制备和分析测试原理 | 第17-28页 |
| ·薄膜样品的制备 | 第17-20页 |
| ·磁控溅射原理 | 第17-19页 |
| ·薄膜样品的制备 | 第19-20页 |
| ·基片洗涤方法 | 第20页 |
| ·薄膜的分析测试原理 | 第20-25页 |
| ·磁性能测量 | 第20-22页 |
| ·薄膜厚度的测量 | 第22-23页 |
| ·薄膜形貌的表征 | 第23-24页 |
| ·薄膜成分的表征 | 第24-25页 |
| ·本实验采用的实验设备 | 第25-27页 |
| 参考文献 | 第27-28页 |
| 第三章 CoFe/CrPt双层膜交换偏置体系的研究 | 第28-50页 |
| ·共溅射法制备CrPt合金膜并对CoFe/CrPt钉扎体系进行研究 | 第28-34页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·实验过程 | 第28-31页 |
| ·实验结果与分析 | 第31-34页 |
| ·小结 | 第34页 |
| ·界面插Mn对CoFe/CrPt双层膜交换耦合的影响 | 第34-39页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·实验设计与方法 | 第34-35页 |
| ·样品制备 | 第35页 |
| ·实验结果和讨论 | 第35-39页 |
| ·结论 | 第39页 |
| ·Mn掺杂CrPt对CoFe/CrPt双层膜交换耦合的影响 | 第39-47页 |
| ·引言 | 第39-40页 |
| ·实验方法: | 第40-41页 |
| ·结果和讨论 | 第41-46页 |
| ·结论 | 第46-47页 |
| 总结 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-50页 |
| 致谢 | 第50页 |
