| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-25页 |
| ·ZrW_2O_8粉体和薄膜的概述 | 第12-18页 |
| ·ZrW_2O_8的结构 | 第12-13页 |
| ·ZrW_2O_8的负热膨胀机理 | 第13-15页 |
| ·ZrW_2O_8的性质 | 第15-16页 |
| ·ZrW_2O_8薄膜的制备技术 | 第16-17页 |
| ·ZrW_2O_8的应用 | 第17-18页 |
| ·Al_2O_3薄膜的概述 | 第18-23页 |
| ·Al_2O_3薄膜的性质 | 第18页 |
| ·Al_2O_3薄膜的制备技术 | 第18-22页 |
| ·Al_2O_3薄膜的应用 | 第22-23页 |
| ·本课题选题思想及研究内容 | 第23-24页 |
| ·本章小节 | 第24-25页 |
| 第二章 靶材、基片以及薄膜制备的前期准备工作 | 第25-39页 |
| ·射频磁控溅射 | 第25-30页 |
| ·射频磁控溅射系统组成 | 第25-26页 |
| ·磁控溅射的特点 | 第26页 |
| ·射频辉光放电 | 第26-27页 |
| ·射频磁控溅射原理 | 第27-29页 |
| ·溅射过程 | 第29-30页 |
| ·射频磁控溅射制备薄膜的实验步骤 | 第30页 |
| ·靶材的制备 | 第30-37页 |
| ·ZrO_2:WO_3=1:2.8复合靶材的制备工艺与研究 | 第31-34页 |
| ·纯ZrW_2O_8靶材的制备工艺与研究 | 第34-36页 |
| ·ZrO_2和WO_3靶材的制备 | 第36-37页 |
| ·基片的选择和处理 | 第37-38页 |
| ·基片的选择 | 第37页 |
| ·基片的清洗方法 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第三章 磁控溅射制备Al_2O_3薄膜 | 第39-50页 |
| ·Al_2O_3薄膜的制备 | 第39-40页 |
| ·Al_2O_3薄膜制备工艺的研究 | 第40-44页 |
| ·Al_2O_3薄膜的物相分析 | 第40页 |
| ·溅射功率对Al_2O_3薄膜制备的影响 | 第40-42页 |
| ·工作气压对Al_2O_3薄膜制备的影响 | 第42-43页 |
| ·工作气氛对Al_2O_3薄膜制备的影响 | 第43-44页 |
| ·Al_2O_3薄膜与基片的结合力研究 | 第44-46页 |
| ·Al_2O_3薄膜介电性能的研究 | 第46-48页 |
| ·溅射功率对Al_2O_3薄膜介电常数的影响 | 第46-47页 |
| ·溅射功率对Al_2O_3薄膜介电损耗的影响 | 第47-48页 |
| ·Al_2O_3薄膜耐磨性能的研究 | 第48-49页 |
| ·MS-T3000材料表面性能测试仪使用原理 | 第48页 |
| ·Al_2O_3薄膜耐磨性能测试 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第四章 钨酸锆薄膜的制备 | 第50-81页 |
| ·ZrO_2:WO_3=1:2.8复合靶材制备钨酸锆薄膜的工艺研究 | 第50-64页 |
| ·溅射功率对ZrW_2O_8薄膜制备的影响 | 第50-51页 |
| ·工作气压对ZrW_2O_8薄膜制备的影响 | 第51页 |
| ·基片和靶材之间的距离对ZrW_2O_8薄膜制备的影响 | 第51-52页 |
| ·工作气氛对ZrW_2O_8薄膜制备的影响 | 第52-53页 |
| ·磁控溅射沉积ZrW_2O_8薄膜工艺参数的制定 | 第53页 |
| ·热处理温度对ZrW_2O_8薄膜制备的影响 | 第53-59页 |
| ·ZrW_2O_8薄膜的表面形貌分析 | 第59-62页 |
| ·热处理温度对薄膜与基片结合力的影响 | 第62-64页 |
| ·纯ZrW_2O_8靶材制备ZrW_2O_8薄膜的工艺研究 | 第64-72页 |
| ·薄膜的制备 | 第64-65页 |
| ·热处理温度对ZrW_2O_8薄膜的成分影响研究 | 第65-69页 |
| ·热处理温度对ZrW_2O_8薄膜的表面形貌影响研究 | 第69-71页 |
| ·热处理温度对薄膜与基片结合力的影响 | 第71-72页 |
| ·ZrO_2靶材和WO_3靶材交替磁控溅射制备钨酸锆薄膜的工艺研究 | 第72-78页 |
| ·薄膜的制备 | 第73-74页 |
| ·热处理温度对ZrW_2O_8薄膜的成分影响研究 | 第74-75页 |
| ·热处理温度对ZrW_2O_8薄膜的表面形貌影响研究 | 第75-77页 |
| ·热处理温度对薄膜与基片结合力的影响 | 第77-78页 |
| ·ZrW_2O_8薄膜的热膨胀性能分析 | 第78-80页 |
| ·本章小结 | 第80-81页 |
| 第五章 ZrW_2O_8与Al_2O_3复合薄膜制备初探 | 第81-90页 |
| ·概述 | 第81页 |
| ·ZrW_2O_8与Al_2O_3复合薄膜制备工艺研究 | 第81-83页 |
| ·ZrW_2O_8与Al_2O_3复合薄膜制备 | 第81-82页 |
| ·ZrW_2O_8与Al_2O_3复合薄膜热处理工艺 | 第82-83页 |
| ·Al_2(WO_4)_3薄膜的制备和性能研究 | 第83-86页 |
| ·Al_2(WO_4)_3薄膜的制备 | 第83页 |
| ·Al_2(WO_4)_3薄膜的热处理工艺研究和XRD分析 | 第83-84页 |
| ·Al_2(WO_4)_3薄膜的SEM分析 | 第84-85页 |
| ·Al_2(WO_4)_3薄膜与基体之间的结合力 | 第85-86页 |
| ·ZrW_2O_8与Al_2O_3复合薄膜制备 | 第86-89页 |
| ·ZrW_2O_8与Al_2O_3复合薄膜制备工艺 | 第86-87页 |
| ·ZrW_2O_8与Al_2O_3复合薄膜表面形貌分析 | 第87-88页 |
| ·ZrW_2O_8与Al_2O_3复合薄膜成分分析 | 第88-89页 |
| ·本章小结 | 第89-90页 |
| 第六章 结论 | 第90-92页 |
| 第七章 结束语 | 第92-93页 |
| 参考文献 | 第93-97页 |
| 致谢 | 第97-98页 |
| 在读学位期间发表的论文 | 第98页 |
