| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-30页 |
| ·氮化镓材料的基本性质及其应用 | 第9-12页 |
| ·氮化镓材料的发展历程、应用、制备方法及常用的缓冲层材料 | 第12-14页 |
| ·氮化镓纳米材料的制备及研究现状 | 第14-29页 |
| ·本论文的选题依据和主要实验内容 | 第29-30页 |
| 第二章 实验设备与测试方法 | 第30-35页 |
| ·实验设备 | 第30-32页 |
| ·实验中所需要的主要材料和试剂 | 第32页 |
| ·样品的测试和表征 | 第32-35页 |
| 第三章 SI 基TI 在氨气中的行为 | 第35-42页 |
| ·样品的制备与表征 | 第35页 |
| ·结果与分析 | 第35-42页 |
| 第四章 在TI 中间层上合成一维GAN 纳米结构 | 第42-50页 |
| ·样品的制备与表征 | 第42页 |
| ·结果与分析 | 第42-48页 |
| ·GAN 纳米线的生长过程的简单讨论 | 第48-50页 |
| 第五章 在TIO_2中间层上合成一维GAN 纳米结构 | 第50-57页 |
| ·样品的制备与表征 | 第50页 |
| ·结果与分析 | 第50-56页 |
| ·GAN 纳米线的生长过程 | 第56-57页 |
| 第六章 结论 | 第57-60页 |
| ·本文的主要研究结果 | 第57-58页 |
| ·对今后工作的建议 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-68页 |
| 攻读硕士期间发表的论文统计 | 第68-71页 |
| 致谢 | 第71页 |