| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 文献综述 | 第10-21页 |
| ·离子渗氮概述 | 第10-13页 |
| ·离子渗氮发展介绍 | 第10页 |
| ·离子渗氮的理论 | 第10-12页 |
| ·离子渗氮的主要特点 | 第12页 |
| ·离子渗氮的用途 | 第12-13页 |
| ·钛及钛合金的特性、用途 | 第13-16页 |
| ·课题的提出 | 第16-21页 |
| ·正交实验的原理 | 第16-17页 |
| ·正交试验步骤 | 第17-18页 |
| ·正交试验优点 | 第18页 |
| ·正交试验的方差分析 | 第18-19页 |
| ·课题的提出 | 第19-21页 |
| 第二章 离子渗氮实验条件及工艺参数的选择 | 第21-25页 |
| ·实验材料及设备 | 第21页 |
| ·实验材料 | 第21页 |
| ·实验设备 | 第21页 |
| ·离子渗氮的实验操作过程 | 第21-22页 |
| ·工艺参数的确定 | 第22-24页 |
| ·实验具体参数表 | 第24-25页 |
| 第三章 改性层的显微组织成分及相结构研究 | 第25-50页 |
| ·检测方法 | 第25页 |
| ·TC4渗层的金相组织研究 | 第25-32页 |
| ·TC4渗层的显微金相组织 | 第25-27页 |
| ·TC4白亮层直观分析 | 第27-31页 |
| ·TC4离子渗氮方差分析 | 第31-32页 |
| ·TC4离子渗氮优化分析 | 第32页 |
| ·纯TI渗层的金相组织研究 | 第32-38页 |
| ·纯Ti渗层显微金相组织 | 第32-34页 |
| ·纯Ti白亮层直观分析 | 第34-37页 |
| ·纯钛离子渗氮方差分析 | 第37页 |
| ·纯Ti离子渗氮优化分析 | 第37-38页 |
| ·GDS成分分析 | 第38-43页 |
| ·TC4离子渗氮渗层元素成分分析 | 第38-41页 |
| ·纯Ti离子渗氮成分分析 | 第41-43页 |
| ·XRD分析 | 第43-46页 |
| ·TC4离子渗氮XRD分析 | 第44-45页 |
| ·纯钛离子渗氮XRD分析 | 第45-46页 |
| ·硬度分析 | 第46-49页 |
| ·TC4离子渗氮硬度分析 | 第46-47页 |
| ·纯钛离子渗氮硬度分析 | 第47-49页 |
| ·小结 | 第49-50页 |
| 第四章 电化学腐蚀性能的研究 | 第50-66页 |
| ·钛和钛合金的耐蚀性 | 第50-51页 |
| ·极化曲线的相关理论 | 第51-53页 |
| ·极化曲线的概念 | 第51页 |
| ·极化曲线的测试方法 | 第51-52页 |
| ·试验装置 | 第52-53页 |
| ·试验条件 | 第53页 |
| ·TC4离子渗氮电化学腐蚀性能试验 | 第53-59页 |
| ·TC4离子渗氮试样在5%NaCl溶液的电化学腐蚀性能 | 第53-57页 |
| ·TC4离子渗氮耐蚀性直观分析 | 第57-58页 |
| ·实验参数优化 | 第58-59页 |
| ·纯钛离子渗氮电化学腐蚀性能试验 | 第59-64页 |
| ·纯Ti离子渗氮试样在5%NaCl溶液的电化学腐蚀性能 | 第59-64页 |
| ·纯钛离子渗氮耐蚀性直观分析 | 第64页 |
| ·实验参数优化 | 第64页 |
| ·小结 | 第64-66页 |
| 第五章 结论 | 第66-68页 |
| ·试验遇到的问题 | 第66页 |
| ·获得的结论 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第73页 |