| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-25页 |
| ·薄膜中惰性气体包埋行为研究的历史 | 第11-20页 |
| ·气体原子包埋入膜层的实验研究 | 第11-14页 |
| ·溅射成膜中工作气体原子包埋现象的理论研究 | 第14-20页 |
| ·应用含惰性气体的薄膜材料模拟放射性衰变材料的实验研究 | 第20-23页 |
| ·小结 | 第23-25页 |
| 第二章 含氦铝膜的制备和工艺研究 | 第25-37页 |
| ·含氦铝膜的制备工艺与氦浓度分析技术 | 第25-31页 |
| ·装置和材料 | 第25-26页 |
| ·样品制备过程 | 第26-27页 |
| ·氦浓度与深度分布的分析 | 第27-31页 |
| ·工艺参数对氦浓度的影响 | 第31-33页 |
| ·真空室气氛对氦浓度的影响 | 第31-32页 |
| ·基底偏压对氦浓度的影响 | 第32页 |
| ·沉积温度对氦浓度的影响 | 第32-33页 |
| ·氦的热释放实验(TDS) | 第33-35页 |
| ·长期存放后样品氦含量的变化 | 第35页 |
| ·小结 | 第35-37页 |
| 第三章 氦原子包埋过程的理论分析 | 第37-43页 |
| ·模型的建立 | 第37-39页 |
| ·氦原子包埋现象的机制 | 第37-38页 |
| ·氦原子包埋模型的建立 | 第38-39页 |
| ·理论模型对实验结果的分析 | 第39-41页 |
| ·工作气体分压比的作用 | 第39-40页 |
| ·基底偏压的作用 | 第40-41页 |
| ·沉积温度的作用 | 第41页 |
| ·小结 | 第41-43页 |
| 第四章 含氦铝膜的微观结构分析 | 第43-51页 |
| ·含氦铝膜的晶体结构变化——XRD分析 | 第43-44页 |
| ·含氦铝膜的表面形貌及演化特征——SEM观察 | 第44-46页 |
| ·不同氦含量铝膜的表面形貌 | 第44-45页 |
| ·含氦铝膜退火后表面形貌的变化 | 第45-46页 |
| ·含氦铝膜内部的微观结构——TEM观察 | 第46-50页 |
| ·TEM试样的制备和分析条件 | 第47页 |
| ·不同氦含量样品的TEM观察 | 第47-48页 |
| ·样品退火后氦泡结构的变化 | 第48-49页 |
| ·氦泡结构的高分辨像 | 第49-50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| 第五章 结论 | 第51-53页 |
| 可进一步开展的工作 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-58页 |
| 论文的创新点 | 第58-59页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文及参加学术会议情况 | 第59页 |