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单层陶瓷电容器制备技术研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-8页
第一章 绪论第8-15页
   ·单层陶瓷电容器现状第8-13页
     ·国内研究动态第8-9页
     ·国外研究动态第9-13页
     ·需求分析第13页
   ·本论文的选题依据和研究内容第13-15页
第二章 单层陶瓷电容器制备技术方案第15-23页
   ·采用技术标准第16页
   ·介质材料的优选第16-18页
   ·电极材料的优选第18页
   ·介质厚度设计第18-20页
   ·结构设计方案第20-21页
   ·产品工艺方案第21-23页
第三章 陶瓷基片制备工艺研究第23-33页
   ·流延法与轧膜法简介第23-24页
     ·流延法第23-24页
     ·轧膜法第24页
   ·陶瓷基片制备关键技术第24-33页
     ·陶瓷介质生坯成型技术第24-28页
     ·陶瓷介质热处理技术第28-33页
第四章 电极制备及切割工艺研究第33-42页
   ·电极制备基本原理第33-37页
     ·溅射原理第33-35页
     ·电镀原理第35页
     ·光刻原理第35-37页
   ·电极制备关键技术第37-40页
     ·溅射第37-39页
     ·电镀第39-40页
   ·陶瓷基片切割技术第40-42页
第五章 产品试制第42-49页
   ·国外同行产品性能第42-44页
   ·试制产品的评价第44-49页
第六章 结论和展望第49-50页
   ·结论第49页
   ·展望第49-50页
致谢第50-51页
参考文献第51-52页

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