单层陶瓷电容器制备技术研究
摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-8页 |
第一章 绪论 | 第8-15页 |
·单层陶瓷电容器现状 | 第8-13页 |
·国内研究动态 | 第8-9页 |
·国外研究动态 | 第9-13页 |
·需求分析 | 第13页 |
·本论文的选题依据和研究内容 | 第13-15页 |
第二章 单层陶瓷电容器制备技术方案 | 第15-23页 |
·采用技术标准 | 第16页 |
·介质材料的优选 | 第16-18页 |
·电极材料的优选 | 第18页 |
·介质厚度设计 | 第18-20页 |
·结构设计方案 | 第20-21页 |
·产品工艺方案 | 第21-23页 |
第三章 陶瓷基片制备工艺研究 | 第23-33页 |
·流延法与轧膜法简介 | 第23-24页 |
·流延法 | 第23-24页 |
·轧膜法 | 第24页 |
·陶瓷基片制备关键技术 | 第24-33页 |
·陶瓷介质生坯成型技术 | 第24-28页 |
·陶瓷介质热处理技术 | 第28-33页 |
第四章 电极制备及切割工艺研究 | 第33-42页 |
·电极制备基本原理 | 第33-37页 |
·溅射原理 | 第33-35页 |
·电镀原理 | 第35页 |
·光刻原理 | 第35-37页 |
·电极制备关键技术 | 第37-40页 |
·溅射 | 第37-39页 |
·电镀 | 第39-40页 |
·陶瓷基片切割技术 | 第40-42页 |
第五章 产品试制 | 第42-49页 |
·国外同行产品性能 | 第42-44页 |
·试制产品的评价 | 第44-49页 |
第六章 结论和展望 | 第49-50页 |
·结论 | 第49页 |
·展望 | 第49-50页 |
致谢 | 第50-51页 |
参考文献 | 第51-52页 |